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原文传递离子化方法和离子化装置、以及成像分析方法和成像分析装置

专利名称：	离子化方法和离子化装置、以及成像分析方法和成像分析装置
摘要：	本发明提供使试样附着于具有导电性的探头(11)的顶端、对所述探头(11)施加离子化电压而对试样(21)赋予电荷从而使其离子化的离子化方法。在离子化方法中，实施使探头(11)的表面均质化的化学处理，使试样(21)附着于探头(11)的顶端，对探头(11)施加离子化电压而对试样(21)赋予电荷从而使其离子化。能够通过使探头(11)发生电晕放电等来进行使探头(11)的表面均质化的化学处理。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	日本;JP
申请人：	株式会社岛津制作所
发明人：	谷口谦一;内田刚史;糸井弘人
专利状态：	有效
申请日期：	2016-11-18T00:00:00+0800
发布日期：	2019-07-02T00:00:00+0800
申请号：	CN201680090736.X
公开号：	CN109964121A
代理机构：	北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	刘新宇;张会华
分类号：	G01N27/62(2006.01);G;G01;G01N;G01N27
申请人地址：	日本京都府
主权项：	1.一种离子化方法，其通过对具有导电性的探头施加离子化电压而使在该探头的顶端附着的试样离子化，该离子化方法的特征在于，实施使所述探头的表面均质化的化学处理，使所述试样附着于所述探头的顶端，对所述探头施加所述离子化电压而对所述试样赋予电荷从而使其离子化。 2.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，利用对所述探头施加放电电压而产生的电压来实施所述化学处理。 3.根据权利要求2所述的离子化方法，其特征在于，在所述放电电压施加时对所述探头的顶端施加的电压的大小的绝对值为1.8keV以上。 4.根据权利要求2所述的离子化方法，其特征在于，所述放电电压的施加时间为30msec以上。 5.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，通过向所述探头照射紫外光来实施所述化学处理。 6.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，通过向所述探头照射微波来实施所述化学处理。 7.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，通过施加高频电压而使所述探头所处的空间生成等离子体，从而实施所述化学处理。 8.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，通过使所述探头与所述试样的相对位置移动而使该试样附着于探头的顶端。 9.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，所述化学处理通过生成活性氧而使所述探头的表面均质化，该活性氧含有羟基自由基、超氧阴离子自由基、氢过氧自由基、过氧化氢、单线态氧、一氧化氮、二氧化氮以及臭氧中的至少1种物质。 10.根据权利要求1所述的离子化方法，其特征在于，在对所述探头施加电压而对所述试样赋予电荷时，向所述试样照射激光。 11.一种成像分析方法，其特征在于，利用权利要求1所述的离子化方法在所述试样的表面的多个点分别生成离子而进行分析。 12.根据权利要求11所述的成像分析方法，其特征在于，所述分析是质谱分析。 13.一种离子化装置，其特征在于，该离子化装置包括：探头，其具有导电性；电压施加部，其用于施加用于使所述探头发生放电的放电电压和用于对附着于所述探头的试样赋予电荷从而使其离子化的离子化电压；试样导入部，其用于使试样附着于所述探头的顶端；以及控制部，其用于控制所述电压施加部和所述试样导入部，在对所述探头施加了所述放电电压之后使试样附着于所述探头的顶端，进而对所述探头施加离子化电压。 14.一种离子化装置，其特征在于，该离子化装置包括：探头，其具有导电性；光源部，其用于向所述探头照射紫外光；电压施加部，其用于施加离子化电压，该离子化电压用于对附着于所述探头的试样赋予电荷从而使其离子化；试样导入部，其用于使试样附着于所述探头的顶端；以及控制部，其用于控制所述光源部、所述电压施加部及所述试样导入部，在向所述探头照射了所述紫外光之后使试样附着于所述探头的顶端，进而对所述探头施加离子化电压。 15.一种离子化装置，其特征在于，该离子化装置包括：探头，其具有导电性；等离子体生成部，其用于使所述探头所处的空间生成等离子体；电压施加部，其用于施加离子化电压，该离子化电压用于对附着于所述探头的试样赋予电荷从而使其离子化；试样导入部，其用于使试样附着于所述探头的顶端；以及控制部，其用于控制所述等离子体生成部、所述电压施加部及所述试样导入部，在使所述空间生成了所述等离子体之后使试样附着于所述探头的顶端，进而对所述探头施加离子化电压。 16.根据权利要求13～15中任一项所述的离子化装置，其特征在于，所述试样导入部具备移动机构，该移动机构用于使所述探头与所述试样的相对位置移动到所述探头的顶端自试样分开的第1位置和该顶端附着于试样的第2位置，所述控制部在所述第1位置对所述探头施加所述放电电压而发生了电晕放电之后，使其移动到所述第2位置而对所述探头施加所述离子化电压。 17.根据权利要求16所述的离子化装置，其特征在于，该离子化装置还具备激光源，该激光源用于向处于所述第1位置的所述探头的顶端照射激光，所述控制部控制所述激光源，从而向在顶端附着有试样的探头照射激光。 18.一种成像分析装置，其特征在于，该成像分析装置还包括：权利要求13～15中任一项所述的离子化装置，其具备试样台和用于使载置于该试样台的试样与所述探头的相对位置移动的移动机构；以及分析执行部，其用于在所述试样上的多个位置分别自该试样生成离子而进行分析。 19.根据权利要求18所述的成像分析装置，其特征在于，所述分析是质谱分析。
所属类别：	发明专利