专利名称: |
图像形成系统 |
摘要: |
本发明提供一种抑制装置大型化的图像形成系统。隔着从图像形成装置(A)排出片材的载置部(42)在上下配置有片材干燥单元(50)和后处理单元(70)。另外,设置有从片材干燥单元(50)向后处理单元(70)搬送片材的中继搬送单元(60),该中继搬送单元(60)以包围载置部(42)的方式形成。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
日本;JP |
申请人: |
佳能精技立志凯株式会社 |
发明人: |
久保守 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2018-12-27T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-07-05T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201811605711.6 |
公开号: |
CN109969845A |
代理机构: |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人: |
李今子 |
分类号: |
B65H29/60(2006.01);B;B65;B65H;B65H29 |
申请人地址: |
日本埼玉县 |
主权项: |
1.一种图像形成系统,具备: 图像形成单元,对介质实施图像形成处理; 介质排出部,具有被排出由所述图像形成单元进行了图像形成处理的所述介质的载置部; 第1处理单元,设置在所述载置部的下方,对所述介质实施规定的处理;以及 第2处理单元,设置在所述载置部的上方,对所述介质实施规定的处理。 2.根据权利要求1所述的图像形成系统,其特征在于, 所述载置部装载从所述图像形成单元和/或所述第1处理单元排出的所述介质。 3.根据权利要求1所述的图像形成系统,其特征在于,还具备: 中继搬送单元,该中继搬送单元具有从所述第1处理单元向所述第2处理单元搬送所述介质的中继搬送路径。 4.根据权利要求3所述的图像形成系统,其特征在于, 所述中继搬送单元从所述第1处理单元接收所述介质的介质接收口相对于所述载置部设置在介质排出口的相反侧,所述介质排出口用于将所述介质从所述图像形成单元向所述载置部排出。 5.根据权利要求4所述的图像形成系统,其特征在于, 所述中继搬送单元具有第2介质排出口,所述第2介质排出口用于相对于所述载置部从所述介质排出口的相反侧将所述介质排出到所述载置部。 6.根据权利要求3所述的图像形成系统,其特征在于, 从所述图像形成单元向所述介质排出部排出所述介质时的介质搬送方向与从所述中继搬送单元向所述第2处理单元交接所述介质时的介质搬送方向为大致相同的方向。 7.根据权利要求3所述的图像形成系统,其特征在于, 具备从所述第1处理单元的上表面接收所述介质的介质接收口、将所述介质交接到所述第2处理单元的介质交接口以及从所述介质接收口向所述介质交接口搬送所述介质的中继搬送路径, 所述中继搬送路径从所述介质接收口朝向上方,然后向所述图像形成单元侧弯曲,进一步向上方弯曲而设置在所述介质交接口。 8.根据权利要求3所述的图像形成系统,其特征在于, 所述中继搬送路径以包围载置部的方式配置,所述载置部载置由所述图像形成单元进行了图像形成处理的所述介质。 9.根据权利要求3所述的图像形成系统,其特征在于, 所述中继搬送单元的单元壳体从所述第1处理单元的上表面朝向上方,然后向所述图像形成单元侧弯曲而延伸设置, 在所述中继搬送单元的单元壳体的上表面设置有所述第1处理单元。 10.根据权利要求3所述的图像形成系统,其特征在于, 所述中继搬送单元的所述单元壳体以包围所述载置部的方式配置。 11.根据权利要求3所述的图像形成系统,其特征在于, 所述载置部、所述中继搬送单元以及所述第2处理单元分别配置在与所述第1处理单元的上表面在上下方向上重叠的位置。 12.根据权利要求1所述的图像形成系统,其特征在于, 所述第1处理单元是介质干燥单元,所述介质干燥单元对由所述图像形成单元进行了图像形成处理的所述介质实施干燥处理。 13.根据权利要求1所述的图像形成系统,其特征在于, 所述第1处理单元是介质翻转单元,所述介质翻转单元对由所述图像形成单元进行了图像形成处理的所述介质实施使介质的表面背面翻转的翻转处理。 14.根据权利要求1所述的图像形成系统,其特征在于, 所述第2处理单元是后处理单元,所述后处理单元对由所述图像形成单元进行了图像形成处理的所述介质实施装订处理、穿孔处理或移位排出处理中的任意处理。 |
所属类别: |
发明专利 |