详情

原文传递一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置

专利名称：	一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置
摘要：	一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，包括喷枪、料源、气源，喷枪通过供给管线与料源、气源连接，喷枪具有喷嘴，喷嘴包括液体通道（1）、激振扩散腔（2）、连通部（3）、出口部（4）、第一气体通道（5）、第二气体通道（6），液体通道、激振扩散腔、连通部、出口部沿流体流动方向依次设置，第一气体通道位于第二气体通道径向内侧，其特征在于：液体通道包括第一锥形段（12），激振扩散腔包括第二锥形段（21），第二锥形段为扩散段，激振扩散腔内设有激振体（22），激振体位于连通部上，连通部具有多个旋流孔（31），多个旋流孔沿周向均匀分布。该喷涂装置雾化精细化程度高、雾化均匀、稳定，从而提高喷釉良品率；防护盖起到防护的作用。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	江西;36
申请人：	江西斯米克陶瓷有限公司
发明人：	陈前;胡国平;沈万康
专利状态：	有效
申请日期：	2019-04-24T00:00:00+0800
发布日期：	2019-07-05T00:00:00+0800
申请号：	CN201910334341.5
公开号：	CN109968505A
代理机构：	北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	汤东凤
分类号：	B28B11/04(2006.01);B;B28;B28B;B28B11
申请人地址：	331100 江西省宜春市丰城市丰城精品陶瓷产业基地内
主权项：	1.一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，包括喷枪、料源、气源，喷枪通过供给管线与料源、气源连接，喷枪具有喷嘴，喷嘴包括液体通道（1）、激振扩散腔（2）、连通部（3）、出口部（4）、第一气体通道（5）、第二气体通道（6），液体通道、激振扩散腔、连通部、出口部沿流体流动方向依次设置，第一气体通道位于第二气体通道径向内侧，其特征在于：液体通道包括第一锥形段（12），激振扩散腔包括第二锥形段（21），第二锥形段为扩散段，激振扩散腔内设有激振体（22），激振体位于连通部上，连通部具有多个旋流孔（31），多个旋流孔沿周向均匀分布。 2.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，在轴向截面中，旋流孔与喷嘴中心轴线呈一夹角设置，该夹角为一锐角；在径向截面中，旋流孔与径向倾斜设置，旋流孔与径向的夹角为一锐角。 3.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，所述液体通道依次包括第一直径段（11）、第一锥形段（12）、第二直径段（13）。 4.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，所述激振体包括第一凸部（23）、第一凹部（24）、第二凸部（25）、弧形连接部（26），第一凸部、第一凹部、第二凸部的曲率不同。 5.根据权利要求4所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，所述第一凸部、第一凹部关于第二凸部对称设置，激振体通过弧形连接部与连通部相连。 6.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，所述连通部上设有结合孔（32），结合孔为内螺纹孔。 7.根据权利要求6所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，还包括防护盖（7），括防护盖（7）包括平坦部（71）、锥形部（72）、螺纹段（73）、安装孔（74），螺纹段具有外螺纹，与结合孔螺纹旋合，锥形部与出口部（4）配合，平坦部位于锥形部的径向外端且与其相连，安装孔为正多边形盲孔。 8.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，所述出口部依次包括第一弧形部（41）、第三直径段（42）、出口孔（43），出口孔为锥形孔。 9.根据权利要求1所述的一种用于陶瓷制造工艺的施釉装置，其特征在于，所述第一气体通道、第二气体通道分别连通第一压缩气体（g1）、第二压缩气体（g2），它们通过阀门可以单独调节气体压力，阀门设置于供给管线上。
所属类别：	发明专利