专利名称: |
用于分析多相流体的系统和方法 |
摘要: |
提出一种装置。该装置包括:电磁引导装置,提供电磁辐射;反射器,其反射电磁辐射的一部分,以生成电磁辐射的反射部分,其中反射器完全浸入多相流体中;以及处理子系统,其基于电磁辐射的反射部分的至少一部分来分析多相流体,其中电磁引导装置的主光轴与反射器的主光轴基本上对齐。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
美国;US |
申请人: |
通用电气公司 |
发明人: |
S.麦蒂;S.K.马哈利克;V.蒂拉克;G.H.梅森;N.G.哈里斯;S.J.伊顿 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2014-07-25T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-07-12T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910163722.1 |
公开号: |
CN110006823A |
代理机构: |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人: |
付曼;申屠伟进 |
分类号: |
G01N21/01(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
美国纽约州 |
主权项: |
1.一种装置,包括: 电磁引导装置,用于提供电磁辐射; 反射器,反射所述电磁辐射的一部分,以生成所述电磁辐射的反射部分,其中所述反射器完全浸入多相流体中;以及 处理子系统,基于所述电磁辐射的所述反射部分的至少一部分来分析所述多相流体, 其中所述电磁引导装置的主光轴与所述反射器的主光轴基本上对齐。 2.如权利要求1所述的装置,其中,所述电磁引导装置的一端与所述反射器的底直接物理接触。 3.如权利要求1所述的装置,其中,所述电磁引导装置的一部分由一个或多个管子来覆盖,以及所述电磁引导装置没有与所述多相流体直接物理接触。 4.如权利要求1所述的装置,还包括生成所述电磁辐射的波源,其中所述波源是相干源或者非相干源。 5.如权利要求4所述的装置,其中,所述电磁引导装置包括耦合到主耦合装置的第一电磁引导装置和第二电磁引导装置,其中所述第一电磁引导装置的一端与所述反射器直接物理接触,以及所述第二电磁引导装置的一端耦合到所述波源。 6.如权利要求5所述的装置,其中,所述主耦合装置: 通过所述第二电磁引导装置从所述波源接收所述电磁辐射; 将所述电磁辐射分为第一电磁辐射部分和第二电磁辐射部分; 通过所述第一电磁引导装置来定向所述第一电磁辐射部分,以照射浸入所述多相流体中的所述反射器;以及 通过第三电磁引导装置将所述第二电磁辐射部分定向到至少一个检测器。 7.如权利要求6所述的装置,其中,所述反射器反射所述第一电磁辐射部分的至少一部分,以生成所述第一电磁辐射部分的反射部分。 8.如权利要求7所述的装置,其中,所述第一电磁辐射部分的所述反射部分包括所述第一电磁辐射部分的0%一直到所述第一电磁辐射部分的大约80%的范围。 9.如权利要求5所述的装置,其中,所述主耦合装置包括耦合器和循环器中的至少一个。 10.如权利要求7所述的装置,其中,所述主耦合装置: 将所述第一电磁辐射部分的所述反射部分分为第一分割反射部分和第二分割反射部分;以及 将所述第一分割反射部分朝检测器定向到。 |
所属类别: |
发明专利 |