专利名称: |
一种微光纤光栅PH3浓度传感器及其制备方法 |
摘要: |
本发明公开了一种微光纤光栅PH3浓度传感器。所述传感器包括敏感涂层、传导光纤和微光纤光栅;所述敏感涂层包含TiO2层和Al掺杂的BN层,所述敏感涂层均匀涂敷在所述微光纤光栅。所述传感器制备方法包括:对光纤进行载氢处理,将光纤包层腐蚀掉,使纤芯裸露出来;采用紫外光曝光法,在纤芯上制备微光纤光栅;利用物理气相沉积方法在微光纤光栅表面沉积TiO2层,以BN和Al为靶材,采用双靶材沉积,先进行BN沉积,然后打开Al靶材进行共沉积,制备Al掺杂的BN层;低温退火。微光纤光栅PH3浓度传感器具有抗电磁干扰、抗腐蚀、灵敏度高和稳定性好等特点,且易于系统集成进行分布式测量,适用于储粮熏蒸过程中PH3浓度的实时准确可靠测量。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
河南;41 |
申请人: |
河南工业大学 |
发明人: |
徐坤;辛玉洁;孙丽君;李艳军;卢涛 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-05-17T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-07-19T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910410149.X |
公开号: |
CN110031418A |
分类号: |
G01N21/33(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
450001 河南省郑州市高新技术产业开发区莲花街100号河南工业大学科技处 |
主权项: |
1.一种微光纤光栅PH3浓度传感器,其特征在于,包括敏感涂层(1),传导光纤(2)和微光纤光栅(3);所述敏感涂层(1)包含TiO2层(11)和BN层(12),所述敏感涂层(1)均匀涂敷在所述微光纤光栅(3),所述传导光纤由纤芯(21)和包层(22)组成。 2.根据权利要求1所述的一种微光纤光栅PH3浓度传感器,其特征还在于:所述的BN层(12)为Al掺杂的BN纳米薄膜材料,其中Al掺杂方式为B位掺杂或者N位掺杂中的一种。 3.根据权力要求1所述的一种微光纤光栅PH3浓度传感器,其特征还在于:所述的微光纤光栅(3)为布拉格光栅,长度为20mm。 4.根据权利要求1所述的一种微光纤光栅PH3浓度传感器,其特征还在于:所述的微光纤光栅(3)的直径为8μm,TiO2层(11)的厚度为0.25μm,和BN层(12)厚度为1.5μm。 5.一种微光纤光栅PH3浓度传感器的制备方法,其特征在于,包括如下步骤: S1:预处理;首先对光纤进行载氢处理,采用强酸将所述的传导光纤包层(22)腐蚀掉,使纤芯(21)完全裸露出来,用二次水冲洗,在真空环境下进行常温干燥,备用; S2:微光纤光栅(3)制备;采用紫外光曝光法,在裸露的光纤纤芯(21)上制备微光纤光栅(3),备用; S3:TiO2层(11)沉积;利用物理气相沉积方法在微光纤光栅(3)表面沉积TiO2层(11),沉积时间为90S; S4:BN层(12)沉积;利用物理气相沉积方法,以BN和Al为靶材,采用双靶材沉积,先进行BN沉积,时间为15S,然后打开Al靶材进行共沉积,时间为300S; S5:低温退火;将所制备的样品放入真空管式炉进行低温退火,退火温度为85℃,时间为20min。 6.根据权利要求4所述的一种微光纤光栅PH3浓度传感器的制备方法,其特征还在于:所述的步骤S2中紫外曝光法采用波长为193nm的 ArF准分子激光器,功率为3mJ,频率为200Hz,相位掩模板的周期为1080nm。 7.根据权利要求4所述的一种微光纤光栅PH3浓度传感器的制备方法,其特征还在于:所述的步骤S3和S4中的物理气相沉积方法为磁控溅射、脉冲激光溅射或者离子束溅射中的一种,磁控溅射条件为真空度1.0×10-5Pa,工作气体为Ar,气体流量为60sccm,溅射温度为室温,工作气压为1Pa。 |
所属类别: |
发明专利 |