专利名称: |
一种新型涂布机及其涂布方法 |
摘要: |
一种新型涂布机,包括:传动装置、擦拭装置、口金以及光学探测装置;其中,所述传动装置包括:工作台、滚轮、导轨以及传送带;所述擦拭装置设置在所述传动装置上方,与所述传送带之间保持一定的距离;所述口金正对所述传送带进行设置,用于对所述传送带上的基板进行涂布;所述光学探测装置设置在所述工作台上,所述光学探测器可以发射光波和接收光波,还可以对发出和接收到的光波信号进行比较;所述光学探测装置上还设置有两个信号灯,所述信号灯用于反馈检测到的信号;有益效果:通过提供一种新型的涂布机,可以在每次进行涂布动作前,对口金的出液口进行检测,确保口金出液口处无异物时,再开始进行涂布工作,提高了涂布的成功率。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
广东;44 |
申请人: |
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
发明人: |
刘子琪 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2019-01-17T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-04-23T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201910043144.8 |
公开号: |
CN109668900A |
代理机构: |
深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) |
代理人: |
黄威 |
分类号: |
G01N21/94(2006.01);G;G01;G01N;G01N21 |
申请人地址: |
518132 广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号 |
主权项: |
1.一种新型涂布机,其特征在于,包括:传动装置、擦拭装置、口金以及光学探测装置;其中, 所述传动装置包括:工作台、滚轮、导轨以及传送带; 所述擦拭装置设置在所述传动装置上方,与所述传送带之间保持一定的距离; 所述口金正对所述传送带进行设置,用于对所述传送带上的基板进行涂布; 所述光学探测装置设置在所述工作台上,所述光学探测器可以发射光波和接收光波,还可以对发出和接收到的光波信号进行比较;所述光学探测装置上还设置有两个信号灯,所述信号灯用于反馈检测到的信号。 2.根据权利要求1所述的新型涂布机,其特征在于,所述擦拭装置的长度大于或等于所述口金出液口的长度。 3.根据权利要求1所述的新型涂布机,其特征在于,所述口金和所述擦拭装置均可沿X轴方向和Z轴方向运动,所述光学探测装置可沿Y轴方向运动。 4.根据权利要求3所述的新型涂布机,其特征在于,所述光学探测装置发射出的光波波长范围为:400-770nm。 5.根据权利要求4所述的新型涂布机,其特征在于,所述光学探测装置可发出多种不同光阻的谱线。 6.根据权利要求5所述的新型涂布机,其特征在于,所述光学探测装置外形由一个立方体或是一个长方体和一个圆柱体组成。 7.根据权利要求6所述的新型涂布机,其特征在于,所述光学探测装置上还设置有两个信号灯。 8.根据权利要求7所述的新型涂布机,其特征在于,所述两个信号灯为一个红灯和一个绿灯。 9.根据权利要求1所述的新型涂布机,其特征在于,所述工作台包括第一导轨和第二导轨。 10.一种新型涂布机的涂布方法,其特征在于,包括上述任一项所述的新型涂布机,其涂布方法包括以下步骤: S10,移动所述擦拭装置和所述口金,使得所述擦拭装置对所述口金出液口进行擦拭; S20,移开所述擦拭装置,同时将所述口金对准所述光学探测装置; S30,所述光学探测装置沿第一导轨方向移动,并发出光波; S40,当所述光学探测装置上的绿灯点亮时,所述口金沿X轴正方向移动,对准所述基板边缘; S50,所述基板在所述传送带上沿X轴负方向运动,同时所述口金开始涂布光阻液。 |
所属类别: |
发明专利 |