专利名称: |
低温XRD测试装置、测试设备、测试系统 |
摘要: |
本发明涉及低温XRD测试技术领域,具体地,涉及一种低温XRD测试装置、测试设备、测试系统。其中,低温XRD测试装置包括:内密封腔体,内密封腔体上设置有进气口和出气口;外密封腔体,外密封腔体包覆于内密封腔体外侧;外密封腔体与内密封腔体之间形成有真空夹层;进气通道和出气通道,分别与进气口和出气口连通并贯穿外密封腔体设置;绝热连接结构,设置于内密封腔体内部并与内密封腔体的内壁连接,绝热连接结构包括样品台以及用于安装测温装置的安装部。该装置可以使测量的样品表面温度较为准确,提高实验结果的准确性,同时可以提高样品台选择的灵活性,能够通过选择非晶材质的样品台来避免对样品谱峰分析的干扰。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
中国科学院化学研究所 |
发明人: |
孙杨;袁震 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
1900-01-20T02:00:00+0805 |
发布日期: |
1900-01-20T14:00:00+0805 |
申请号: |
CN202010001993.X |
公开号: |
CN111007092A |
代理机构: |
北京润平知识产权代理有限公司 |
代理人: |
李健;温春艳 |
分类号: |
G01N23/20033;G;G01;G01N;G01N23;G01N23/20033 |
申请人地址: |
100190 北京市海淀区中关村北一街2号 |
主权项: |
1.一种低温XRD测试装置,其特征在于,包括: 内密封腔体(1),所述内密封腔体(1)包括第一罩体以及与所述第一罩体连接的共同形成所述内密封腔体(1)的第一底壁(12),所述内密封腔体(1)上设置有进气口和出气口; 外密封腔体(2),所述外密封腔体(2)包覆于所述内密封腔体(1)外侧,所述外密封腔体(2)与所述内密封腔体(1)之间通过支撑结构连接,所述外密封腔体(2)包括第二罩体以及与所述第二罩体连接的共同形成所述外密封腔体(2)的第二底壁(13); 所述外密封腔体(2)与所述内密封腔体(1)之间形成有用于使所述内密封腔体(1)的内部环境与所述外密封腔体(2)外的外界环境之间绝热的真空夹层; 进气通道和出气通道,所述进气通道和所述出气通道分别与所述进气口和所述出气口连通并贯穿所述外密封腔体(2)设置,以使所述内密封腔体(1)的内部能够流通低温惰性气体; 绝热连接结构(11),所述绝热连接结构(11)设置于所述内密封腔体(1)内部并与所述内密封腔体(1)的内壁连接,所述绝热连接结构(11)包括用于放置样品的样品台以及用于安装测温装置并靠近所述样品台设置的安装部;所述样品台以及所述安装部设置为能够使所述样品和所述测温装置分别与所述内密封腔体(1)的内壁间隔设置。 2.根据权利要求1所述的低温XRD测试装置,其特征在于,所述绝热连接结构(11)包括设置于所述第一底壁(12)上并形成有所述安装部的绝热支撑架,所述安装部位于所述绝热支撑架的顶板靠近所述第一底壁(12)的一侧,所述样品台设置于所述绝热支撑架的顶板远离所述第一底壁(12)的一侧。 3.根据权利要求1所述的低温XRD测试装置,其特征在于,所述进气通道包括形成于所述第二底壁(13)上的进气孔、两端分别与所述进气口和所述进气孔连通的进气导热柱(5)以及通过所述进气孔与所述进气导热柱(5)连通并位于所述外密封腔体(2)外部的进气管(3);所述出气通道包括形成于所述第二底壁(13)上的出气孔、两端分别与所述出气口和所述出气孔连通的出气导热柱(6)以及通过所述出气孔与所述出气导热柱(6)连通并位于所述外密封腔体(2)外部的出气管(4)。 4.根据权利要求3所述的低温XRD测试装置,其特征在于,所述进气导热柱(5)外侧设置有用于控温的加热器。 5.根据权利要求4所述的低温XRD测试装置,其特征在于,所述加热器外侧包覆有用于使所述加热器与所述进气导热柱(5)紧密接触的铟箔。 6.根据权利要求3所述的低温XRD测试装置,其特征在于,所述进气导热柱(5)内部设置有换热丝。 7.根据权利要求3所述的低温XRD测试装置,其特征在于,所述进气管(3)和所述出气管(4)分别包括外管、设置于所述外管内部的内管以及位于所述内管和所述外管之间的真空层。 8.根据权利要求7所述的低温XRD测试装置,其特征在于,所述内管为聚四氟乙烯管,所述进气管(3)和所述出气管(4)分别采用快拧接头与所述进气导热柱(5)和所述出气导热柱(6)连接。 9.根据权利要求1所述的低温XRD测试装置,其特征在于,所述外密封腔体(2)上设置有用于抽真空的干泵(10)和用于监测真空度的真空计(9)。 10.根据权利要求1所述的低温XRD测试装置,其特征在于,所述支撑结构包括设置于所述第一底壁(12)和所述第二底壁(13)之间的若干绝热支撑柱(7)。 11.根据权利要求1所述的低温XRD测试装置,其特征在于,所述外密封腔体(2)和所述内密封腔体(1)对应的部位均设置有测试用的窗口薄膜(8);位于所述外密封腔体(2)和所述内密封腔体(1)上的所述窗口薄膜(8)均为平面密封。 12.根据权利要求11所述的低温XRD测试装置,其特征在于,所述第一底壁(12)与所述第一罩体之间通过弹簧蓄能密封圈密封连接;位于所述内密封腔体(1)上的窗口薄膜(8)与所述内密封腔体(1)的相应部位之间通过弹簧蓄能密封圈密封连接。 13.一种低温XRD测试设备,其特征在于,包括如权利要求1-12任一所述的低温XRD测试装置,以及设置于所述安装部上的用于测量热平衡后的所述内密封腔体(1)内部环境温度的测温装置,所述测温装置与所述内密封腔体(1)的内壁之间间隔设置。 14.一种低温XRD测试系统,其特征在于,包括如权利要求1-12任一所述的低温XRD测试装置以及低温气体控温装置,所述低温气体控温装置包括用于冷却惰性气体的液氮罐以及与所述液氮罐连接的用于控制惰性气体流量的气体流量计,所述进气通道和所述出气通道分别与所述液氮罐连接。 |
所属类别: |
发明专利 |