专利名称: |
一种结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统 |
摘要: |
本发明公开了一种结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,包括激光发射源、变形镜、物镜、分束镜、第一扫描振镜、第二扫描振镜以及图像探测器;以及第一透镜对、第二透镜对,所述第一透镜对用于构建所述第一扫描振镜与所述变形镜的共轭关系;所述第二透镜对设置于所述变形镜与所述物镜之间;所述分束镜,用于将通过所述物镜且沿着所述第三光路和所述第二光路返回的荧光光束反射到所述第二扫描振镜;所述图像探测器,用于通过所述第二扫描振镜的成像光路获取图像。本发明提供了一种结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,通过应用再扫描技术与自适应光学技术,提高双光子显微镜的成像分辨率。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
哈工大机器人(中山)无人装备与人工智能研究院 |
发明人: |
王伟波;谭久彬;张宝元 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
1900-01-20T02:00:00+0805 |
发布日期: |
1900-01-20T00:00:00+0805 |
申请号: |
CN202010008103.8 |
公开号: |
CN111077078A |
代理机构: |
广州三环专利商标代理有限公司 |
代理人: |
郭浩辉;麦小婵 |
分类号: |
G01N21/01;G01N21/64;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/01;G01N21/64 |
申请人地址: |
528429 广东省中山市翠亨新区哈工大机器人集团智能装备产业园(三个五厂房D栋)3层 |
主权项: |
1.一种结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,其特征在于,包括激光发射源、变形镜、物镜、分束镜、第一扫描振镜、第二扫描振镜以及图像探测器;其中,由所述激光发射源发出的光束定向到所述第一扫描振镜,形成第一光路;所述光束通过所述第一扫描振镜到达所述变形镜,形成第二光路;所述光束从所述变形镜到所述物镜,形成第三光路;所述第二扫描振镜的扫描振幅大于所述第一扫描振镜的扫描振幅; 在所述第二光路还设有第一透镜对,所述第一透镜对用于构建所述第一扫描振镜与所述变形镜的共轭关系; 在所述第三光路还设有第二透镜对,所述第二透镜对设置于所述变形镜与所述物镜之间; 所述物镜,用于激发并收集荧光光束; 所述分束镜,用于将通过所述物镜且沿着所述第三光路和所述第二光路返回的荧光光束反射到所述第二扫描振镜; 所述图像探测器,用于通过所述第二扫描振镜的成像光路获取图像。 2.如权利要求1所述的结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,其特征在于,还包括光学强度控制组件;所述光学强度控制组件设于所述第一光路,并且设于所述激光发射源与所述第一扫描振镜之间。 3.如权利要求2所述的结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,其特征在于,所述光学强度控制组件包括二分之一波片和偏振片;其中,所述激光发射源发出的光束首先透过所述二分之一波片再透过所述偏振片。 4.如权利要求1所述的结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,其特征在于,还包括若干设于所述第一光路的透镜和光阑;所述若干透镜、若干光阑在所述第一光路交错排列。 5.如权利要求4所述的结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,其特征在于,所述透镜和所述光阑各有两个;所述两个透镜的焦距比为1:5。 6.如权利要求1所述的结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,其特征在于,还包括聚焦透镜;所述聚焦透镜设于所述第二扫描振镜的成像光路。 7.如权利要求1所述的结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,其特征在于,还包括滤光片;所述滤光片设于所述第二扫描振镜的成像光路。 8.如权利要求1至7任一所述的结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,其特征在于,还包括波前传感器、第三透镜对以及回转镜;其中,所述回转镜改变所述第二扫描振镜的成像光路,形成第四光路; 所述回转镜和所述波前传感器分别设置于所述第四光路的首端和末端,所述第三透镜对设置于所述回转镜和所述波前传感器之间的第四光路。 9.如权利要求8所述的结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,其特征在于,所述第二扫描振镜的扫描振幅为所述第一扫描振镜的两倍。 10.如权利要求8所述的结合自适应再扫描技术的双光子显微成像系统,其特征在于,在所述第四光路还设有发射滤光片;所述发射滤光片设于所述波前传感器的光收集口的前置位置。 |
所属类别: |
发明专利 |