专利名称: |
基于气相滴定法的臭氧校准仪 |
摘要: |
本申请涉及一种基于气相滴定法的臭氧校准仪。该臭氧校准仪包括第一反应室,包括第一一氧化氮入口、第一臭氧入口、第一气体出口和通光孔;荧光探测器,其探测部分与通光孔相连;第一气泵,与第一气体出口连接;第二反应室,包括第二一氧化氮入口、第二臭氧入口和第二气体出口,第二气体出口与第一一氧化氮入口连接;标准一氧化氮气路,用于向第一反应室、第二反应室提供一氧化氮;第一臭氧发生气路,与第一臭氧入口连接;第二臭氧发生气路,与第二臭氧入口连接;第一臭氧发生气路提供的过量臭氧浓度大于第二臭氧发生气路提供的臭氧标准气体浓度。该臭氧校准仪极大地降低了臭氧分析仪校准的难度和成本,也保证了臭氧分析仪数据的准确性。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
北京雪迪龙科技股份有限公司 |
发明人: |
敖小强;潘本锋;姜加龙 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
1900-01-20T06:00:00+0805 |
发布日期: |
1900-01-20T01:00:00+0805 |
申请号: |
CN202010010723.5 |
公开号: |
CN111089860A |
代理机构: |
北京律和信知识产权代理事务所(普通合伙) |
代理人: |
张羽;谢清萍 |
分类号: |
G01N21/76;G01N21/64;G01N31/16;G;G01;G01N;G01N21;G01N31;G01N21/76;G01N21/64;G01N31/16 |
申请人地址: |
102206 北京市昌平区回龙观国际信息产业基地3街3号 |
主权项: |
1.一种基于气相滴定法的臭氧校准仪,其特征在于,包括: 第一反应室,包括第一一氧化氮入口、第一臭氧入口、第一气体出口和通光孔; 荧光探测器,所述荧光探测器的探测部分与所述通光孔相连; 第一气泵,与所述第一气体出口连接; 第二反应室,包括第二一氧化氮入口、第二臭氧入口和第二气体出口,所述第二气体出口与所述第一一氧化氮入口连接; 标准一氧化氮气路,用于向所述第一反应室、所述第二反应室提供一氧化氮; 第一臭氧发生气路,与所述第一臭氧入口连接,用于向所述第一反应室提供过量臭氧; 第二臭氧发生气路,与所述第二臭氧入口连接,用于向所述第二反应室提供臭氧标准气体; 所述第一臭氧发生气路提供的过量臭氧浓度大于所述第二臭氧发生气路提供的臭氧标准气体浓度。 2.根据权利要求1所述的臭氧校准仪,其特征在于,所述标准一氧化氮气路通过所述第二反应室连接所述第一反应室的第一一氧化氮入口。 3.根据权利要求1所述的臭氧校准仪,其特征在于,还包括处理气路,设置于所述第一反应室的第一气体出口和所述第一气泵之间。 4.根据权利要求3所述的臭氧校准仪,其特征在于,所述处理气路包括除臭氧装置。 5.根据权利要求1所述的臭氧校准仪,其特征在于,第一臭氧发生气路包括连接的第一臭氧发生装置和第一限流装置。 6.根据权利要求5所述的臭氧校准仪,其特征在于,所述第一臭氧发生装置为高压放电装置。 7.根据权利要求1所述的臭氧校准仪,其特征在于,第二臭氧发生气路包括依次连接的第二气泵、第二臭氧发生装置、两通阀和第二限流装置。 8.根据权利要求7所述的臭氧校准仪,其特征在于,所述第二臭氧发生装置为低压汞灯装置。 9.根据权利要求1所述的臭氧校准仪,其特征在于,标准一氧化氮气路包括连接的一氧化氮标准气发生装置和第三限流装置。 10.根据权利要求1所述的臭氧校准仪,其特征在于,还包括标准臭氧气路,所述标准臭氧气路包括连接的第四限流装置和臭氧标准气体出口,所述第四限流装置与所述第二臭氧发生装置连接。 |
所属类别: |
发明专利 |