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原文传递 一种胶路底平面提取方法及装置
专利名称: 一种胶路底平面提取方法及装置
摘要: 本发明公开了一种胶路底平面提取方法及装置,属于3D涂胶测量工业领域,其中,方法的实现包括:剔除胶路点云中胶路层的目标点得到第一胶路点云;剔除第一胶路点云中胶路层的剩余离散点得到第二胶路点云;对第二胶路点云进行平面拟合得到胶路底平面。本发明相比于传统的手动设置点云底平面而言,使用程序化,降低了胶路检测系统的复杂性;相比于直接用所有点云来拟合底平面而言,本发明删除了极大值和极小值离散点造成的影响,提高了底平面位置的准确性。
专利类型: 发明专利
申请人: 熵智科技(深圳)有限公司
发明人: 赵青;华凯
专利状态: 有效
申请日期: 1900-01-20T00:00:00+0805
发布日期: 1900-01-20T17:00:00+0805
申请号: CN201911400174.6
公开号: CN111024715A
代理机构: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司
代理人: 胡琳萍;张宇
分类号: G01N21/88;G01B11/00;G01B11/02;G01B11/06;G06T7/00;G;G01;G06;G01N;G01B;G06T;G01N21;G01B11;G06T7;G01N21/88;G01B11/00;G01B11/02;G01B11/06;G06T7/00
申请人地址: 518031 广东省深圳市福田区华强北街道福强社区振华路中电迪富大厦7层703
主权项: 1.一种胶路底平面提取方法,其特征在于,包括: 剔除胶路点云中胶路层的目标点得到第一胶路点云; 剔除所述第一胶路点云中所述胶路层的剩余离散点得到第二胶路点云; 对所述第二胶路点云进行平面拟合得到胶路底平面。 2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述剔除胶路点云中胶路层的目标点得到第一胶路点云,包括: 遍历所述胶路点云得到所述胶路点云中各点高度的第一平均值; 截取所述第一平均值以下的点云得到第一胶路点云。 3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述剔除所述第一胶路点云中所述胶路层的剩余离散点得到第二胶路点云,包括: 获取所述第一胶路点云中各点高度的最大值、最小值及第二平均值; 基于所述最大值、所述最小值及所述第二平均值确定预设距离; 截取所述第二平均值以上所述预设距离内的点及所述第二平均值以下所述预设距离内的点,得到第二胶路点云。 4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述基于所述最大值、所述最小值及所述第二平均值确定预设距离,包括: 获取所述最大值与所述第二平均值之间的第一差值; 获取所述第二平均值与所述最小值之间的第二差值; 将所述第一差值与所述第二差值之间的最小者作为所述预设距离。 5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述截取所述第二平均值以上所述预设距离内的点及所述第二平均值以下所述预设距离内的点,得到第二胶路点云,包括: 获取所述第二平均值与所述预设距离之间的第三差值; 获取所述第二平均值与所述预设距离之间的总和值; 截取所述第三差值到所述总和值范围内的点云得到所述第二胶路点云。 6.一种胶路底平面提取装置,其特征在于,包括: 第一剔除单元,用于剔除胶路点云中胶路层的目标点得到第一胶路点云; 第二剔除单元,用于剔除所述第一胶路点云中所述胶路层的剩余离散点得到第二胶路点云; 拟合单元,用于对所述第二胶路点云进行平面拟合得到胶路底平面。 7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述第一剔除单元,包括: 第一计算单元,用于遍历所述胶路点云得到所述胶路点云中各点高度的第一平均值; 第一截取单元,用于截取所述第一平均值以下的点云得到第一胶路点云。 8.根据权利要求6或7所述的装置,其特征在于,所述第二剔除单元,包括: 第二计算单元,用于获取所述第一胶路点云中各点高度的最大值、最小值及第二平均值; 第三计算单元,用于基于所述最大值、所述最小值及所述第二平均值确定预设距离; 第二截取单元,用于截取所述第二平均值以上所述预设距离内的点及所述第二平均值以下所述预设距离内的点,得到第二胶路点云。 9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,所述第三计算单元,包括: 获取所述最大值与所述第二平均值之间的第一差值; 第四计算单元,用于获取所述第二平均值与所述最小值之间的第二差值; 第五计算单元,用于将所述第一差值与所述第二差值之间的最小者作为所述预设距离。 10.根据权利要求9所述的装置,其特征在于,所述第二截取单元,包括: 第六计算单元,用于获取所述第二平均值与所述预设距离之间的第三差值; 第七计算单元,用于获取所述第二平均值与所述预设距离之间的总和值; 第二截取子单元,用于截取所述第三差值到所述总和值范围内的点云得到所述第二胶路点云。
所属类别: 发明专利
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