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原文传递自组装模型及其制备方法以及可光调控摩擦系数薄膜的自组装方法

专利名称：	自组装模型及其制备方法以及可光调控摩擦系数薄膜的自组装方法
摘要：	本发明公开了一种自组装模型的制备方法，包括：提供有机光致异构化分子溶液，包括溶剂和溶解于所述溶剂中的有机光致异构化分子，所述有机光致异构化分子在第一波长范围的紫外光照射下能够转变为第一结构，在第二波长范围的可见光照射下能够转变为第二结构，所述有机光致异构化分子在分别处于所述第一结构与处于所述第二结构时具有不同的摩擦系数；将所述有机光致异构化分子溶液滴加至高定向热解石墨基底的表面；以及静置至将所述有机光致异构化分子溶液中的所述溶剂挥发，使所述有机光致异构化分子溶液在所述高定向热解石墨基底上自组装形成自组装膜。本发明还公开了一种自组装模型。本发明还公开了一种可光调控摩擦系数薄膜的自组装方法。
专利类型：	发明专利
申请人：	清华大学
发明人：	马丽然;薛单单;温诗铸;雒建斌
专利状态：	有效
申请日期：	1900-01-20T00:00:00+0805
发布日期：	1900-01-20T08:00:00+0805
申请号：	CN201911405315.3
公开号：	CN111122431A
代理机构：	北京华进京联知识产权代理有限公司
代理人：	王勤思
分类号：	G01N19/02;G01Q60/10;G01Q60/24;G;G01;G01N;G01Q;G01N19;G01Q60;G01N19/02;G01Q60/10;G01Q60/24
申请人地址：	100084 北京市海淀区清华园1号
主权项：	1.一种自组装模型的制备方法，包括：提供有机光致异构化分子溶液，包括溶剂和溶解于所述溶剂中的有机光致异构化分子，所述有机光致异构化分子在第一波长范围的紫外光照射下能够转变为第一结构，在第二波长范围的可见光照射下能够转变为第二结构，所述有机光致异构化分子在分别处于所述第一结构与处于所述第二结构时具有不同的摩擦系数；将所述有机光致异构化分子溶液滴加至高定向热解石墨基底的表面；以及静置至将所述有机光致异构化分子溶液中的所述溶剂挥发，使所述有机光致异构化分子溶液在所述高定向热解石墨基底上自组装形成自组装膜。 2.根据权利要求1所述的自组装模型的制备方法，其特征在于，所述有机光致异构化分子溶液中的所述有机光致异构化分子的浓度为10-6mol/l～10-4mol/l。 3.根据权利要求1所述的自组装模型的制备方法，其特征在于，所述有机光致异构化分子溶液在所述高定向热解石墨基底上的滴加量为0.05μl/0.7x0.7cm2～0.5μl/0.7x0.7cm2。 4.根据权利要求1所述的自组装模型的制备方法，其特征在于，所述自组装膜中的所述有机光致异构化分子与所述高定向热解石墨基底通过非共价键连接。 5.根据权利要求1所述的自组装模型的制备方法，其特征在于，所述有机光致异构化分子选自含偶氮苯基团的分子、螺吡喃类分子以及二芳烯类分子中的一种或多种。 6.根据权利要求1所述的自组装模型的制备方法，其特征在于，所述自组装膜为单分子层膜。 7.一种如权利要求1-6任一项所述的自组装模型的制备方法制备得到的自组装模型。 8.一种可光调控摩擦系数薄膜的自组装方法，包括：提供如权利要求1-6任一项所述的自组装模型的制备方法制备得到的自组装模型；将所述自组装模型放置于原子力显微镜的样品台上，用第一波长范围的紫外光照射所述自组装模型，使所述有机光致异构化分子转变为第一结构，测量所述有机光致异构化分子处于所述第一结构时所述自组装膜的摩擦系数；或者，用第二波长范围的可见光照射所述自组装模型，使所述有机光致异构化分子转变为第二结构，测量所述有机光致异构化分子处于所述第二结构时所述自组装膜的摩擦系数。 9.根据权利要求8所述的可光调控摩擦系数薄膜的自组装方法，其特征在于，还包括：在将所述自组装模型放置于原子力显微镜的样品台上之前，将所述自组装模型在扫描隧道显微镜下进行形貌扫描来表征所述自组装膜的表界面结构。 10.根据权利要求8所述的可光调控摩擦系数薄膜的自组装方法，其特征在于，交替的将所述第一波长范围的紫外光和所述第二波长范围的可见光照射所述自组装模型，使所述有机光致异构化分子在所述第一结构和所述第二结构之间可逆的转变。 11.根据权利要求10所述的可光调控摩擦系数薄膜的自组装方法，其特征在于，还包括：将所述有机光致异构化分子处于所述第一结构时与所述有机光致异构化分子处于所述第二结构时的所述自组装膜分别在扫描隧道显微镜下进行形貌扫描来表征所述自组装膜的结构变化。 12.根据权利要求10所述的可光调控摩擦系数薄膜的自组装方法，其特征在于，将所述第一波长范围的紫外光照射所述自组装模型后，将所述自组装模型遮光处理至恢复室温，然后再用所述第二波长范围的可见光进行照射；和/或，将所述第二波长范围的可见光照射所述自组装模型后，将所述自组装模型遮光处理至恢复室温，然后再用所述第一波长范围的紫外光进行照射。
所属类别：	发明专利