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原文传递试样预处理装置

专利名称：	试样预处理装置
摘要：	本发明提供一种试样预处理装置，准确且高效地解除由基质物质的结晶的沉淀引起的喷嘴的堵塞。本发明所涉及的试样预处理装置的一个方式是向试样的表面涂布溶解有或分散有规定的物质的溶液的试样预处理装置，该试样预处理装置具备：喷洒部(3)，其包括用于流通所述溶液的溶液管(32)、用于流通喷雾气体的气体管(33)以及通过喷出经过所述气体管后的喷雾气体来将到达所述溶液管的末端的所述溶液进行喷雾的喷嘴部(30)；以及所述清洗液供给部(4、41)，其从所述喷洒部的外侧向所述喷嘴部的开口施加清洗液。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	日本;JP
申请人：	株式会社岛津制作所
发明人：	高桥和辉;寺岛健太
专利状态：	在审
申请日期：	2020-08-12T00:00:00+0800
发布日期：	2021-03-12T00:00:00+0800
申请号：	CN202010805626.5
公开号：	CN112485076A
代理机构：	北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	刘新宇
分类号：	G01N1/28;G01N1/34;G01N27/62;G;G01;G01N;G01N1;G01N27;G01N1/28;G01N1/34;G01N27/62
申请人地址：	日本京都府
所属类别：	发明专利