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原文传递 一种金属表界面磨损的试验装置及方法
专利名称: 一种金属表界面磨损的试验装置及方法
摘要: 本申请公开了一种金属表界面磨损的试验装置及方法,用于实现原子尺度的磨损试验的观察。本申请包括:控制试样组件开始运行,所述试样组件用于进行磨损试验;控制照明组件在预设参数下向所述试样组件发射电子光束,所述电子光束透过所述试样组件后形成携带有所述磨损试验信息的目标电子光束;控制成像组件将所述目标电子光束进行放大成像,得到成像结果;控制观察与记录组件将所述成像结果向用户展示。
专利类型: 发明专利
申请人: 中国地质大学(北京);中国地质大学(北京)郑州研究院
发明人: 佘丁顺;高武龙;方纪昊;田畅;高迪;岳文;康嘉杰;王浩东;孟德忠;王尉
专利状态: 有效
申请日期: 2021-12-03T00:00:00+0800
发布日期: 2022-03-11T00:00:00+0800
申请号: CN202111466623.4
公开号: CN114166674A
代理机构: 北京优赛深闻知识产权代理有限公司
代理人: 窦艳鹏
分类号: G01N3/56;G01N3/06;G;G01;G01N;G01N3;G01N3/56;G01N3/06
申请人地址: 100000 北京市海淀区学院路29号;
主权项: 1.一种金属表界面磨损的试验方法,其特征在于,包括: 控制试样组件开始运行,所述试样组件用于进行磨损试验; 控制照明组件在预设参数下向所述试样组件发射电子光束,所述电子光束透过所述试样组件后形成携带有所述磨损试验信息的目标电子光束; 控制成像组件将所述目标电子光束进行放大成像,得到成像结果; 控制观察与记录组件将所述成像结果向用户展示。 2.根据权利要求1所述的试验方法,其特征在于,所述预设参数包括:在200KV时亮度为5×108A·cm-2·sr-1、光源尺寸为10-100nm、能量发散度为0.6-0.8eV、发射电流为20-100μA、短时间稳定度为7%、长时间稳定度为6%/h以及电流效率为10%。 3.根据权利要求1或2所述的试验方法,其特征在于,所述控制照明组件向所述试样组件发射电子光束之前,所述试验方法还包括: 将所述照明组件以及所述观察与记录组件所在的腔体进行真空处理。 4.根据权利要求1或2中所述的试验方法,其特征在于,所述控制观察与记录组件将所述成像结果向用户展示包括: 将所述成像结果进行记录。 5.根据权利要求1或2中所述的试验方法,其特征在于,所述控制试样组件开始运行之前,所述试验方法还包括: 将所述试样组件的静电除去。 6.根据权利要求1或2中所述的试验方法,其特征在于,所述控制试样组件开始运行之前,所述试验方法还包括: 对所述试样组件中的样品杆进行清洗。 7.根据权利要求1或2所述的试验方法,其特征在于,所述试样组件中的样品杆为Nanofactory STM-TEM原位力电杆。 8.一种金属表界面磨损的试验装置,其特征在于,包括: 试样组件,用于进行原子尺度磨损试验; 照明组件,用于在预设参数下向试样组件发射电子光束,电子光束透过试样组件后形成携带有磨损试验信息的目标电子光束; 成像组件,用于将所述目标电子光束进行放大成像,得到成像结果; 观察与记录组件,用于将所述成像结果向用户展示。 9.根据权利要求8所述的试验装置,其特征在于,所述试验装置还包括: 真空组件,用于将所述照明组件以及所述观察与记录组件所在的腔体进行真空处理。 10.根据权利要求8或9所述的试验装置,其特征在于,所述观察与记录组件还用于将所述成像结果进行记录。
所属类别: 发明专利
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