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原文传递流动集中部件、流动池组件及分析系统

专利名称：	流动集中部件、流动池组件及分析系统
摘要：	本实用新型涉及一种流动集中部件。流动集中器可以限定中心轴线、近端和远端，并且具有在流动集中部件内沿着所述中心轴线的方向延伸的中心孔；所述流动集中部件限定了花键外表面，所述花键外表面限定了多个周向布置的旁路凹槽通道，所述多个旁路凹槽通道在所述中心轴线的方向上延伸，并且每个所述旁路凹槽通道具有深度和长度。本实用新型还涉及一种流动池组件以及一种分析系统。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	美国;US
申请人：	生命科技股份有限公司
发明人：	E·菲南;M·沃德
专利状态：	有效
申请日期：	2022-04-26T00:00:00+0800
发布日期：	2022-12-06T00:00:00+0800
申请号：	CN202220985326.4
公开号：	CN217981187U
代理机构：	上海专利商标事务所有限公司
代理人：	江漪
分类号：	G01N15/14;G;G01;G01N;G01N15;G01N15/14
申请人地址：	美国加利福尼亚州
主权项：	1.一种流动集中部件，其特征在于，其包括：所述流动集中部件限定中心轴线、近端和远端，并且具有在所述流动集中部件内沿着所述中心轴线的方向延伸的中心孔；所述流动集中部件限定花键外表面，所述花键外表面限定多个周向布置的旁路凹槽通道，所述多个旁路凹槽通道在所述中心轴线的方向上延伸，并且每个旁路凹槽通道具有深度HF和长度LF，并且所述流动集中部件的外表面限定了当在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时变化的横截面尺寸。 2.根据权利要求1所述的流动集中部件，其特征在于，所述流动集中部件的横截面轮廓限定第一部分，所述第一部分具有成角度的、弯曲的或以其他方式远离所述中心孔延伸的横截面轮廓，所述第一部分任选地包括相对于所述中心轴线以5度至60度的第一角度θ1倾斜的部分，所述第一部分从所述流动集中部件的端部延伸。 3.根据权利要求2所述的流动集中部件，其特征在于，所述流动集中部件的所述横截面轮廓限定第二部分，所述第二部分具有成角度的、弯曲的或以其他方式远离所述中心孔延伸的轮廓。 4.根据权利要求3所述的流动集中部件，其特征在于，所述第二部分的所述横截面轮廓不同于所述第一部分的所述横截面轮廓。 5.根据权利要求4所述的流动集中部件，其特征在于，所述第二部分的至少一部分以相对于所述中心轴线测量的第二角度θ2倾斜，θ2小于θ1。 6.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，所述流动集中部件的所述横截面轮廓限定了基本上平行于所述中心轴线的部分。 7.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，至少一个旁路凹槽通道限定了在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时变化的宽度，所述宽度任选地在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时增加。 8.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，所述中心孔限定直径DB，其中所述流动集中部件限定在所述流动集中部件的沿着所述中心轴线的最宽点处测量的直径DC，并且其中DB与DC的比率为2:10至4:10。 9.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，所述流动集中部件限定在所述流动集中部件的沿着所述中心轴线的最宽点处测量的直径DC，并且其中HF与DC的比率为1:20至1:5.1。 10.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，HF在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时变化。 11.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，所述深度HF在从所述近端到所述远端的方向上沿着所述中心轴线测量时增加。 12.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，HF为100μm至1000μm。 13.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，所述流动集中部件限定长度LC，并且其中LC与旁路凹槽通道的所述长度LF的比率为10:5至10:8。 14.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，所述流动集中部件包括多个部件的组件。 15.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，所述流动集中部件包括单个主体。 16.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，所述流动集中部件包括陶瓷材料。 17.根据权利要求1-5中任一项所述的流动集中部件，其特征在于，所述中心孔限定中心轴线，并且其中当在所述流动集中部件的所述近端和所述流动集中部件的所述远端中的一个或两个处测量时，所述中心孔的所述中心轴线偏离所述流动集中部件的所述中心轴线小于10μm。 18.一种流动池组件，其特征在于，所述流动池组件包括：根据权利要求1-17中任一项所述的流动集中部件；鞘流体输送区域，所述鞘流体输送区域在所述流动集中部件的近端与多个旁路凹槽通道流体连通，所述鞘流体输送区域在所述流动集中部件的所述近端与所述流动集中部件的所述中心孔流体隔离，所述流动池进一步包括聚焦区域，所述聚焦区域被配置成包含来自所述流动集中部件的所述中心孔的流体样品流和来自所述多个旁路凹槽通道的鞘流体流，所述聚焦区域限定中心轴线，并且所述流动池被配置成将与所述流动集中部件接合的样品流体毛细管在所述聚焦区域的所述中心轴线上居中。 19.根据权利要求18所述的流动池组件，其特征在于，其进一步包括所述样品流体毛细管，所述样品流体毛细管被配置成在其中连通流体样品，所述流体样品包括布置在其中的多个颗粒，所述毛细管被配置成与所述流动集中部件的所述中心孔接合。 20.一种分析系统，其特征在于，其包括： -颗粒处理列，所述颗粒处理列包括：样品通道，所述样品通道限定流动的轴线并被配置成连通包括布置在其中的多个颗粒的流体样品，以及多个鞘流动通道，所述鞘流动通道围绕所述样品通道周向布置并被布置成基本上平行于所述流动的轴线，所述多个鞘流动通道被配置，以便连通通过其中的鞘流体，从而将所述流体样品的颗粒流体动力学地聚焦到流动通道的中心轴线；和 -颗粒分析器，所述颗粒分析器被配置为分析所述流动通道中的流体动力学聚焦的颗粒。 21.根据权利要求20所述的分析系统，其特征在于，所述颗粒分析器包括激光器。 22.根据权利要求20-21中任一项所述的分析系统，其特征在于，所述多个鞘流动通道被封闭在流动集中器部件内。 23.根据权利要求20-21中任一项所述的分析系统，其特征在于，所述多个鞘流动通道被限定在流动集中器部件和流动通道的壁之间。