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原文传递 基坑冠梁位移监测装置及其标靶结构
专利名称: 基坑冠梁位移监测装置及其标靶结构
摘要: 本实用新型公开一种基坑冠梁位移监测装置及其标靶结构,监测装置包括:设置于第一基坑边的至少一个标靶;设置于第二基坑边的至少一个测距模块,测距模块用于获取至少一个标靶的位置采样参数;控制模块,用于根据采样控制指令控制测距模块运行,并接收位置采样参数,将位置采样参数转换为冠梁位移参数;上位机,用于对控制模块下发采样控制指令,接收并显示控制模块上传的位置采样参数和/或冠梁位移参数。本实用新型设置至少一个标靶和至少一个测距模块,通过控制模块控制测距模块获取至少一个标靶的位置采样参数,并将其转换为冠梁位移参数,可实现基坑水平位移的实时测量,监测精度高。
专利类型: 实用新型
国家地区组织代码: 广东;44
申请人: 广州市吉华勘测股份有限公司
发明人: 黄文德;彭炎华;严永光;王建华;黎立虎;陆远波
专利状态: 有效
申请日期: 2022-08-16T00:00:00+0800
发布日期: 2023-01-31T00:00:00+0800
申请号: CN202222161809.5
公开号: CN218405586U
代理机构: 北京品源专利代理有限公司
代理人: 倪焱
分类号: E02D33/00;E02D17/04;G01B11/02;G01S17/08;E;G;E02;G01;E02D;G01B;G01S;E02D33;E02D17;G01B11;G01S17;E02D33/00;E02D17/04;G01B11/02;G01S17/08
申请人地址: 511400 广东省广州市番禺区大石街石北工业路684号(巨大创意产业园)12栋501、502、503、510号
主权项: 1.一种基坑冠梁位移监测装置,所述基坑包括相对设置的第一基坑边和第二基坑边,其特征在于,所述监测装置包括: 设置于所述第一基坑边的至少一个标靶; 设置于所述第二基坑边的至少一个测距模块,所述测距模块用于获取至少一个所述标靶的位置采样参数; 控制模块,用于根据采样控制指令控制所述测距模块运行,并接收所述位置采样参数,将所述位置采样参数转换为冠梁位移参数; 上位机,用于对所述控制模块下发所述采样控制指令,接收并显示所述控制模块上传的所述位置采样参数和/或所述冠梁位移参数。 2.根据权利要求1所述的基坑冠梁位移监测装置,其特征在于,任意两个相邻的所述测距模块之间具有至少一个共同测量的所述标靶。 3.根据权利要求2所述的基坑冠梁位移监测装置,其特征在于,还包括固定标靶,所述固定标靶设置于所述基坑外的首尾两端,所述固定标靶与所述测距模块之间的相对位置保持固定; 所述测距模块还用于获取所述固定标靶的固定位置参数; 所述控制模块包括:坐标修正单元,所述坐标修正单元用于接收所述固定位置参数,并采用所述固定位置参数对所述位置采样参数进行修正。 4.根据权利要求1-3中任一项所述的基坑冠梁位移监测装置,其特征在于,还包括:旋转云台和云台控制电路; 所述云台控制电路分别与所述控制模块和所述旋转云台连接,所述云台控制电路用于根据所述采样控制指令驱动所述旋转云台旋转目标角度; 所述旋转云台用于固定所述测距模块,并带动所述测距模块旋转目标角度,以使所述测距模块依次获取至少一个所述标靶的位置采样参数。 5.根据权利要求4所述的基坑冠梁位移监测装置,其特征在于,还包括:计时单元,所述计时单元用于获取所述旋转云台的转动时间,并将所述转动时间发送至所述云台控制电路; 其中,所述转动时间与所述目标角度正相关。 6.根据权利要求1-3中任一项所述的基坑冠梁位移监测装置,其特征在于,还包括:通信模块,所述通信模块设置于所述控制模块与所述上位机之间; 所述通信模块用于将所述上位机下发的所述采样控制指令传输至所述控制模块,并将所述位置采样参数和/或所述冠梁位移参数传输至所述上位机。 7.根据权利要求6所述的基坑冠梁位移监测装置,其特征在于,所述通信模块包括无线通信接口和/或总线通信接口。 8.一种标靶结构,其特征在于,用于权利要求1-7中任一项所述的基坑冠梁位移监测装置,所述标靶结构包括: 设置于基坑的任一基坑边的至少一个标靶,所述标靶与测距模块之间的相对位置随所述基坑冠梁的位移发生改变; 设置于所述基坑外的首尾两端的固定标靶,所述固定标靶与测距模块之间的相对位置保持固定; 所述固定标靶的固定位置参数用于对所述标靶的位置采样参数进行修正。 9.根据权利要求8所述的标靶结构,其特征在于,所述标靶包括透明体,所述透明体背离所述测距模块的一侧设有反射面; 所述透明体朝向所述测距模块的一侧至少部分区域设置多个复合面结构。 10.根据权利要求9所述的标靶结构,其特征在于,所述复合面结构包括朝向第一方向倾斜的圆柱面,及朝向第二方向倾斜的曲面和/或平面;所述第一方向与所述第二方向的朝向相反; 所述圆柱面的面积大于所述曲面和所述平面的面积之和。
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