专利名称: |
荧光探测系统 |
摘要: |
本发明提供一种对微弱荧光信号探测的荧光探测系统,包括:原子束流发生装置,用于发射原子束流;密闭真空腔,设置于所述原子束流发射装置的一侧,所述原子束流在所述密闭真空腔中被激发而产生荧光,所述荧光随机地向所述密闭真空腔的内壁出射;反射结构和光电探测装置,在垂直所述原子束流的方向上,所述反射结构和所述光电探测装置分别位于所述密闭真空腔相对的底部和顶部;其中,所述反射结构用于反射出射至所述密闭真空腔底部的所述荧光,使得所述荧光重新出射至所述真空腔顶部并被所述光电探测装置接收。上述荧光探测系统降低原子跃迁产生的荧光信号收集难度,大大提高荧光收集率。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
浙江;33 |
申请人: |
凯瑟斯技术(杭州)有限公司 |
发明人: |
屈求智;王旭成;董功勋;梁宇航;吴冲;余兴新 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2023-08-14T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2023-11-14T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN202311019468.0 |
公开号: |
CN117054384A |
代理机构: |
南京科知维创知识产权代理有限责任公司 |
代理人: |
梁珺 |
分类号: |
G01N21/64;G01N21/01;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/64;G01N21/01 |
申请人地址: |
311400 浙江省杭州市富阳区春江街道江南路68号第23幢907室 |
主权项: |
1.一种荧光探测系统,其特征在于,所述荧光探测系统包括: 原子束流发生装置,用于发射原子束流; 密闭真空腔,设置于所述原子束流发射装置的一侧,所述原子束流在所述密闭真空腔中被激发而产生荧光,所述荧光随机地向所述密闭真空腔的内壁出射; 反射结构和光电探测装置,在垂直所述原子束流的方向上,所述反射结构和所述光电探测装置分别位于所述密闭真空腔相对的底部和顶部; 其中,所述反射结构用于反射出射至所述密闭真空腔底部的所述荧光,使得所述荧光重新出射至所述真空腔顶部并被所述光电探测装置接收。 2.根据权利要求1所述的荧光探测系统,其特征在于,所述反射结构为反射涂层,所述反射涂层覆盖在所述密闭真空腔底部的腔壁外侧,位于所述密闭真空腔外。 3.根据权利要求1所述的荧光探测系统,其特征在于,所述反射结构为反射棱镜结构,所述反射棱镜结构的平坦一侧固定连接于所述密闭真空腔底部的腔壁外侧,位于所述密闭真空腔的外侧;其中,所述反射棱镜结构包括单一角锥棱镜,或者,多个微型角锥棱镜组成的角锥棱镜阵列。 4.根据权利要求1所述的荧光探测系统,其特征在于,所述反射结构为凹面反射镜,所述原子束流到所述凹面反射镜之间的距离为所述凹面反射镜的焦距1-2倍。 5.根据权利要求1所述的荧光探测系统,其特征在于,所述反射结构为第二凸透镜和平面反射镜的组合反射结构,所述第二凸透镜位于所述密闭真空腔的底部的外侧和所述平面反射镜的反射平面之间,所述第二凸透镜和所述原子束流之间的距离等于所述第二凸透镜的焦距; 其中,出射至所述密闭真空腔底部的荧光,经所述第二凸透镜汇聚后继续出射至所述反射平面,经所述反射平面反射后,再经所述第二凸透镜向上出射,并从所述密闭真空腔的顶部出射,并被所述光电探测装置接收。 6.根据权利要求2至5中任一项所述的荧光探测系统,其特征在于,还包括第一凸透镜,所述第一凸透镜设置于所述密闭真空腔的顶部和所述光电探测装置之间,从所述密闭真空腔的顶部出射的所述荧光经所述凸透镜汇聚后,被所述光电探测装置接收; 其中,所述第一凸透镜和所述原子束流之间的距离为所述第一凸透镜的焦距的1-2倍。 7.根据权利要求6所述的荧光探测系统,其特征在于,所述第一凸透镜和所述光电探测装置之间的距离为小于等于所述第一凸透镜的两倍焦距。 8.根据权利要求2至5中任一项所述的荧光探测系统,其特征在于,所述光电探测装置紧贴于所述密闭真空腔顶部的腔壁外侧。 9.根据权利要求8所述的荧光探测系统,其特征在于,所述光电探测装置完全覆盖所述密闭真空腔顶部的腔壁外侧。 10.根据权利要求3至5中任一项所述的荧光探测系统,其特征在于,所述密闭真空腔相对的顶部和底部的腔壁设置为透明。 |