专利名称: |
电化学系统与植入式生化试片 |
摘要: |
本公开提供一种电化学系统,包括电极单元以及和所述电极单元电性连接的反应单元。电极单元位于绝缘基板上。电极单元包括工作电极和对电极,其中对电极的电流密度大于工作电极的电流密度。第一绝缘隔片位于电极单元上。亦公开一种植入式生化试片。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
中国台湾;71 |
申请人: |
五鼎生物技术股份有限公司 |
发明人: |
杨振宇;杨志亮 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2023-04-26T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2023-11-21T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN202310460816.1 |
公开号: |
CN117092181A |
代理机构: |
隆天知识产权代理有限公司 |
代理人: |
于磊 |
分类号: |
G01N27/327;G01N27/416;G;G01;G01N;G01N27;G01N27/327;G01N27/416 |
申请人地址: |
中国台湾新竹市 |
主权项: |
1.一种电化学系统,包括: 一电极单元,包括一工作电极和一对电极,其中该对电极的一电流密度大于该工作电极的一电流密度;以及 一反应单元,其电性连接该电极单元。 2.如权利要求1所述的电化学系统,其中该对电极的该电流密度大于或等于该工作电极的该电流密度的两倍。 3.如权利要求1所述的电化学系统,其中该对电极的一面积小于或等于该工作电极的一面积。 4.如权利要求1所述的电化学系统,其中该对电极为一阴极,且该对电极的一活性材料的一标准还原电位符合其中该/>为该活性材料的一标准还原电位,该/>为该工作电极上一浓度反应的一标准还原电位,且该Ev为一测量仪提供一测量反应所施加的一电位。 5.如权利要求1所述的电化学系统,其中该对电极为一阳极,且该对电极的一活性材料的一标准还原电位符合其中该/>为该活性材料的一标准还原电位,该为该工作电极上一浓度反应的一标准还原电位,且该Ev为一测量仪提供一测量反应所施加的一电位。 6.如权利要求1所述的电化学系统,其中该反应单元与一目标分析物进行一主反应,且该对电极用于进行一次反应,其中该次反应不干扰该主反应,该次反应使该对电极能够接收或释放额外电子。 7.如权利要求1所述的电化学系统,还包括: 一保护单元,电性连接该电极单元,其中该保护单元用以在该电极单元接收一电子之后氧化该电极单元或在该电极单元失去一电子之后还原该电极单元,其中该保护单元与该电极单元间有一电位差 8.如权利要求7所述的电化学系统,其中该电位差大于0。 9.一种植入式生化试片,包括: 一基板; 一生物相容性涂层,设于该基板上; 一电极单元,介于该基板与该生物相容性涂层间,其中该电极单元包括一 工作电极和一对电极,其中该对电极用以透过一自身氧化还原次反应而接收或释放额外电子,且该对电极的一电流密度大于该工作电极的一电流密度;以及一反应层,其电性连接该电极单元。 10.如权利要求9所述的植入式生化试片,还包括: 一第一端,其连接于一测量仪;以及 一第二端,其植入于一样本中。 11.如权利要求10所述的植入式生化试片,其中该第二端被该生物相容性涂层所覆盖。 12.如权利要求9所述的植入式生化试片,其中该反应层介于该工作电极与该对电极之间。 13.如权利要求9所述的植入式生化试片,其中该反应层覆盖该工作电极或该对电极。 14.如权利要求9所述的植入式生化试片,其中该基板有一细长结构,且该生物相容性涂层环绕该基板。 15.如权利要求9所述的植入式生化试片,其中该电极单元还包括一备用电极,其设于该基板上。 16.一种植入式生化试片,包括: 一基板,其具有一测量端与一可植入端; 一生物相容性涂层,其设于该基板上; 一电极单元,其介于该基板与该生物相容性涂层之间,其中该电极单元包括一工作电极与一对电极,其中该对电极包含一活性材料;以及一保护层,其电性连接于该电极单元,用以稳定该对电极之该活性材料。 17.如权利要求16所述的植入式生化试片,其中该保护层位于该测量端。 18.如权利要求16所述的植入式生化试片,其中该保护层排置为邻近该对电极。 19.如权利要求16所述的植入式生化试片,其中该保护层与该电极单元间有一电位差 20.如权利要求19所述的植入式生化试片,其中该电位差大于0。 |
所属类别: |
发明专利 |