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原文传递电化学试片

专利名称：	电化学试片
摘要：	本实用新型提供一种电化学试片，包括绝缘基板、电极系统、第一绝缘隔片以及第二绝缘隔片。电极系统配置于绝缘基板上，其中电极系统包括第一电极结构以及第二电极结构，第一电极结构与第二电极结构彼此绝缘设置。第一绝缘隔片覆盖部分的电极系统，其中第一绝缘隔片的一端具有凹口，部分的电极系统暴露于凹口。第二绝缘隔片覆盖第一绝缘隔片，其中第一绝缘隔片的凹口与绝缘基板以及第二绝缘隔片构成反应区，在反应区中的电极系统靠近凹口底部具有断路区。本实用新型提供的电化学试片，在不需额外增设其他电极结构的条件下，即可准确地识别测试样品是否达到足够的容量并适当地覆盖电极。
专利类型：	实用新型
国家地区组织代码：	中国台湾;71
申请人：	五鼎生物技术股份有限公司
发明人：	林昕儒;曾柏元;陈思豪
专利状态：	有效
申请日期：	2018-12-20T00:00:00+0800
发布日期：	2019-11-05T00:00:00+0800
申请号：	CN201822143182.4
公开号：	CN209589916U
代理机构：	北京同立钧成知识产权代理有限公司
代理人：	李小波;臧建明
分类号：	G01N27/26(2006.01);G;G01;G01N;G01N27
申请人地址：	中国台湾新竹市科学工业园区力行五路7号
主权项：	1.一种电化学试片，其特征在于，包括：绝缘基板；电极系统，配置于所述绝缘基板上，其中所述电极系统包括第一电极结构以及第二电极结构，所述第一电极结构与所述第二电极结构彼此绝缘设置；第一绝缘隔片，覆盖部分的所述电极系统，其中所述第一绝缘隔片的一端具有凹口，部分的所述电极系统暴露于所述凹口；以及第二绝缘隔片，覆盖所述第一绝缘隔片，其中所述第一绝缘隔片的所述凹口与所述绝缘基板以及所述第二绝缘隔片构成反应区，其中在所述反应区中的所述电极系统靠近所述凹口底部具有断路区。 2.根据权利要求1所述的电化学试片，其特征在于，所述断路区位于所述第一电极结构。 3.根据权利要求2所述的电化学试片，其特征在于，所述第一电极结构包括：前电极区段，包括所述第一电极结构自靠近所述凹口顶部延伸至所述断路区的区段；以及后电极区段，包括所述第一电极结构自所述断路区延伸至靠近所述凹口底部的区段，其中所述前电极区段与所述后电极区段之间的所述断路区的距离为第一距离，所述前电极区段与所述第二电极结构之间的最小电性距离为第二距离，所述后电极区段与所述第二电极结构之间的最小电性距离为第三距离，其中所述第三距离大于所述第一距离，所述第三距离大于所述第二距离。 4.根据权利要求3所述的电化学试片，其特征在于，所述第三距离大于或等于所述第一距离与所述第二距离之和。 5.根据权利要求3所述的电化学试片，其特征在于，所述第一距离大于所述第二距离。 6.根据权利要求5所述的电化学试片，其特征在于，所述第一距离大于或等于两倍的所述第二距离。 7.根据权利要求2所述的电化学试片，其特征在于，所述第一电极结构为参考电极，所述第二电极结构为工作电极。 8.根据权利要求2所述的电化学试片，其特征在于，所述第一电极结构为工作电极，所述第二电极结构为参考电极。 9.根据权利要求1所述的电化学试片，其特征在于，所述第二绝缘隔片包括通气孔，且所述通气孔于所述绝缘基板上的投影位于所述反应区内，其中所述通气孔于所述电极系统上的投影与所述断路区部分重叠或完全重叠。 10.根据权利要求1所述的电化学试片，其特征在于，所述断路区包括导电层。
所属类别：	实用新型