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原文传递一种全自动染色体核型分析染色装置

专利名称：	一种全自动染色体核型分析染色装置
摘要：	本发明公开了全自动染色体核型分析染色装置，属于医疗器械领域，包括玻片上料结构、烘染结构、抓取结构、冷浴结构以及温浴结构，玻片上料结构收容并存储多个载玻片，抓取结构将玻片上料结构上的载玻片移动至烘染结构的烘染室，冷浴结构冷藏保存试剂，温浴结构将试剂加热至预设温度并将加热后的试剂输送至烘染室，烘染组件能够加热使烘染室保持恒温，使载玻片在恒温中染色然后烘染组件使染色后的载玻片烘干，整个过程完全自动化，染色时间、染色温度以及烘干时间和烘干温度控制精准。
专利类型：	发明专利
申请人：	苏州国科医工科技发展(集团)有限公司;济南高新科技成果转化经纪有限公司
发明人：	于海利;王爽;高楠;于洋;崔凯;于海燕;姜毕营
专利状态：	有效
申请日期：	2023-08-28T00:00:00+0800
发布日期：	2023-11-07T00:00:00+0800
申请号：	CN202311091004.0
公开号：	CN117007403A
代理机构：	北京远大卓悦知识产权代理有限公司
代理人：	陈林
分类号：	G01N1/31;G;G01;G01N;G01N1;G01N1/31
申请人地址：	215163 江苏省苏州市高新区科技城科灵路88号;
主权项：	1.全自动染色体核型分析染色装置，包括支架，其特征在于：所述全自动染色体核型分析染色装置还包括玻片上料结构，所述玻片上料结构包括上料驱动组件以及安装于所述上料驱动组件的上料仓，所述上料仓用于收容多个载玻片；烘染结构，所述烘染结构包括烘染组件，所述烘染组件设有烘染室以及与所述烘染室连通的流道，所述烘染组件能够加热使所述烘染室保持恒温；抓取结构，所述抓取结构安装于所述支架，所述抓取结构包括第一驱动组件、安装于所述第一驱动组件的第二驱动组件、安装于所述第二驱动组件的第三驱动组件，以及安装于所述第三驱动组件的夹爪，所述第一驱动组件驱使所述第二驱动组件、所述第三驱动组件以及所述夹爪沿第一方向移动，所述第二驱动组件驱使所述第三驱动组件以及所述夹爪沿垂直于第一方向的第二方向移动，所述第三驱动组件驱使所述夹爪沿垂直于第一方向以及第二方向的第三方向移动，所述夹爪将所述玻片上料结构上的载玻片移动至所述烘染结构的烘染室；冷浴结构，所述冷浴结构用于冷藏保存试剂；温浴结构，所述温浴结构与所述冷浴结构以及所述烘染组件的流道连通，所述温浴结构将试剂加热至预设温度并将加热后的试剂输送至烘染室。 2.根据权利要求1所述的全自动染色体核型分析染色装置，其特征在于：所述支架包括底板、立柱以及顶板，所述立柱垂直固定于所述底板，所述顶板固定于所述立柱顶端，所述玻片上料结构、所述烘染组件安装于所述底板，所述抓取结构安装于所述顶板。 3.根据权利要求1所述的全自动染色体核型分析染色装置，其特征在于：所述上料仓包括安装座以及收容仓，所述安装座与所述上料驱动组件传动连接，所述安装座为敞开式结构，所述收容仓放置于所述安装座中，所述收容仓设有多个存储载玻片的收容槽。 4.根据权利要求3所述的全自动染色体核型分析染色装置，其特征在于：所述上料驱动组件包括上料驱动件以及上料滑块，所述上料驱动件固定于所述支架，所述上料滑块滑动安装于所述支架，所述上料驱动件与所述上料滑块滑动连接，所述安装座固定于所述上料滑块，所述上料驱动件驱动所述上料仓相对所述支架移动。 5.根据权利要求3所述的全自动染色体核型分析染色装置，其特征在于：所述烘染结构还包括第一阀泵组件，所述第一阀泵组件固定安装于所述支架，所述烘染组件包括主体以及接头，所述烘染室设置于所述主体，所述接头安装于所述主体并与所述流道连通，所述第一阀泵组件与所述接头连接。 6.根据权利要求5所述的全自动染色体核型分析染色装置，其特征在于：所述烘染组件还包括第一控制阀，所述第一控制阀安装于所述主体，所述第一控制阀控制所述温浴结构的进液。 7.根据权利要求1所述的全自动染色体核型分析染色装置，其特征在于：所述温浴结构包括中转组件、试剂计量组件以及第二阀泵组件，所述中转组件与所述烘染室连通，所述试剂计量组件与所述中转组件连通，所述第二阀泵组件与所述试剂计量组件连通，所述第二阀泵组件控制所述中转组件向所述烘染室进液，所述试剂计量组件控制所述中转组件的进液量。 8.根据权利要求7所述的全自动染色体核型分析染色装置，其特征在于：所述冷浴结构包括冷藏箱、水冷组件以及水泵，所述冷藏箱与所述中转组件连通，所述水冷组件与所述冷藏箱连接为所述冷藏箱降温，所述水泵控制所述冷藏箱内液体流入所述中转组件。 9.根据权利要求1所述的全自动染色体核型分析染色装置，其特征在于：所述夹爪为吸盘。 10.根据权利要求1所述的全自动染色体核型分析染色装置，其特征在于：所述烘染组件与所述温浴结构位于同一直线上，所述玻片上料结构位于所述烘染组件以及所述温浴结构一侧，所述抓取结构位于所述玻片上料结构以及所述烘染组件上方。
所属类别：	发明专利