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原文传递场效应晶体管加工用的上料装置

专利名称：	场效应晶体管加工用的上料装置
摘要：	本发明公开了场效应晶体管加工用的上料装置，包括第一输送带，所述第一输送带底端的两侧固定连接有支撑腿，所述第一输送带的一侧安装有第二输送带，所述第二输送带底端的一侧固定连接有伸缩腿，所述第一输送带两端的两侧固定连接有固定板，所述固定板的一端分别设置有第一限位挡板和第二限位挡板，所述第一输送带的下方安装有收集盒。该场效应晶体管加工用的上料装置的上料角度可调节，调节时先将第二输送带移动到合适的上料角度，随后将伸缩腿调整到合适的高度后并使用定位螺栓固定即可，然后再将限位杆插入到限位卡槽内部实现固定即可，该结构实现了便于灵活上料的功能，解决了上料角度不便调节的问题。
专利类型：	发明专利
国家地区组织代码：	广东;44
申请人：	先之科半导体科技(东莞)有限公司
发明人：	许卫林
专利状态：	有效
申请日期：	2023-08-11T00:00:00+0800
发布日期：	2023-11-21T00:00:00+0800
申请号：	CN202311009229.7
公开号：	CN117088039A
代理机构：	东莞市永桥知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人：	何新华
分类号：	B65G15/24;B65G21/20;B65G41/00;B;B65;B65G;B65G15;B65G21;B65G41;B65G15/24;B65G21/20;B65G41/00
申请人地址：	523430 广东省东莞市寮步镇寮步百业路70号1栋、2栋
主权项：	1.场效应晶体管加工用的上料装置，包括第一输送带(4)，其特征在于：所述第一输送带(4)底端的两侧固定连接有支撑腿(1)，所述第一输送带(4)的一侧安装有第二输送带(11)，所述第二输送带(11)底端的一侧固定连接有伸缩腿(13)，所述第一输送带(4)两端的两侧固定连接有固定板(6)，所述固定板(6)的一端分别设置有第一限位挡板(5)和第二限位挡板(7)，所述第一输送带(4)的下方安装有收集盒(2)，所述收集盒(2)顶部两端的两侧固定连接有安装卡杆(3)，所述第二输送带(11)的两端固定连接有调节盘(9)，所述调节盘(9)的内部设置有限位卡槽(15)，所述第一输送带(4)的两端的一侧活动连接有安装轴(10)，所述安装轴(10)的顶端活动铰接有限位杆(14)。 2.根据权利要求1所述的场效应晶体管加工用的上料装置，其特征在于：所述限位卡槽(15)设置有八组，所述限位卡槽(15)在调节盘(9)的内部呈环形分布。 3.根据权利要求1所述的场效应晶体管加工用的上料装置，其特征在于：所述安装轴(10)的一端贯穿调节盘(9)的内部，所述限位杆(14)可嵌在限位卡槽(15)的内部。 4.根据权利要求1所述的场效应晶体管加工用的上料装置，其特征在于：所述伸缩腿(13)的前端安装有定位螺栓(12)，所述定位螺栓(12)的一端贯穿并嵌在伸缩腿(13)的内部。 5.根据权利要求1所述的场效应晶体管加工用的上料装置，其特征在于：所述固定板(6)的内部活动连接有调节丝杆(8)，所述调节丝杆(8)的一端与第一限位挡板(5)的一端呈活动连接。 6.根据权利要求1所述的场效应晶体管加工用的上料装置，其特征在于：所述第一限位挡板(5)和第二限位挡板(7)的长度相同之间活动安装有连接板(19)。 7.根据权利要求1所述的场效应晶体管加工用的上料装置，其特征在于：所述第一限位挡板(5)和第二限位挡板(7)的一端固定连接有橡胶垫(20)。 8.根据权利要求1所述的场效应晶体管加工用的上料装置，其特征在于：所述安装卡杆(3)的内部设置有预留槽(18)，所述第一输送带(4)两端的两侧活动连接有活动轴(16)，所述活动轴(16)前端的顶部固定连接有定位杆(17)。 9.根据权利要求8所述的场效应晶体管加工用的上料装置，其特征在于：所述定位杆(17)可嵌在预留槽(18)的内部。 10.根据权利要求8所述的场效应晶体管加工用的上料装置，其特征在于：所述定位杆(17)设置在安装卡杆(3)的前端。
所属类别：	发明专利