专利名称: |
片剂供给装置和片剂供给方法 |
摘要: |
本发明的课题是提供一种能够提高片剂的供给量的技术。本发明的解决方案的片剂供给装置,具备:片剂支撑部,在搬送片剂(9)的搬送路径中,支撑片剂(9)的侧面;片剂排除部,在搬送路径中,从搬送路径排除相对于片剂(9)的搬送方向处于不适当的姿势的片剂(9);以及一个以上喷射部(13),向将片剂(9)推压到片剂支撑部的方向喷出气体。由此,能够提高片剂的供给量。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
株式会社斯库林集团 |
发明人: |
西川贵之 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2023-05-18T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2023-11-21T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN202310567003.2 |
公开号: |
CN117088087A |
代理机构: |
隆天知识产权代理有限公司 |
代理人: |
向勇 |
分类号: |
B65G47/256;B65G47/248;B65G47/14;B;B65;B65G;B65G47;B65G47/256;B65G47/248;B65G47/14 |
申请人地址: |
日本京都府 |
主权项: |
1.一种片剂供给装置,将片剂向供给目的地供给,其中, 具备: 片剂支撑部,在搬送所述片剂的搬送路径中,支撑所述片剂的侧面; 片剂排除部,在所述搬送路径中,从所述搬送路径排除相对于所述片剂的搬送方向处于不适当的姿势的所述片剂;以及 一个以上的喷射部,向将所述片剂推压到所述片剂支撑部的方向喷出气体。 2.如权利要求1所述的片剂供给装置,其中, 所述喷射部中的至少一个向相对于所述搬送方向处于不适当的姿势的所述片剂与所述片剂排除部接触的接触点喷出气体。 3.如权利要求1或2所述的片剂供给装置,其中, 具备多个所述喷射部, 在多个所述喷射部中,在所述搬送方向上位于最下游侧的第一喷射部的气体的喷出方向相对于所述搬送方向的角度,为比所述第一喷射部更靠上游侧的所述喷射部的气体的喷出方向相对于所述搬送方向的角度以上。 4.如权利要求3所述的片剂供给装置,其中, 各所述喷射部越位于所述搬送方向的下游侧,各所述喷射部的气体的喷出方向相对于所述搬送方向的角度越大。 5.如权利要求1或2所述的片剂供给装置,其中, 所述喷射部中的至少一个以相对于所述搬送方向为45°以上且90°以下的角度喷出气体。 6.如权利要求1或2所述的片剂供给装置,其中, 所述喷射部中的至少一个是金属制。 7.如权利要求1或2所述的片剂供给装置,其中, 所述片剂为椭圆形片。 8.一种片剂供给方法,将片剂向供给目的地供给,其中, 包括: a)工序,由支撑所述片剂的侧面的片剂支撑部支撑所述片剂的侧面,并沿规定的搬送方向搬送所述片剂; b)工序,向将所述片剂推压到所述片剂支撑部的方向喷出气体;以及 c)工序,从搬送所述片剂的搬送路径排除相对于所述搬送方向处于不适当的姿势的所述片剂。 |
所属类别: |
发明专利 |