专利名称: | 线性滑轨的静音球装置 |
摘要: | 本实用新型公开了一种线性滑轨的静音球装置,其是由滑座、循环器、弧度抗拉带、间隔片及滚动元件所组成,其特征在于,该间隔片之间设有一弧度抗拉带,该弧度抗拉带与间隔片连结,间隔片之间形成一容置空间,滚动元件置入该容置空间内,间隔片两侧分别斜向延伸设有一直线位移接触面及一循环位移接触面,滚动元件置于滑座的直孔及循环器的循环孔内,间隔片的直线位移接触面与滚动元件相互贴合接触,间隔片的循环位移接触面与滚动元件相互贴合接触,保持滚动元件和间隔片的接触点处于中心处,弧度抗拉带以点接触方式与抗拉带导引槽配合。 |
专利类型: | 实用新型专利 |
国家地区组织代码: | 台湾;71 |
申请人: | 国际直线科技股份有限公司 |
发明人: | 李茂碷;李训呈 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2003-11-26T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200320127404.4 |
公开号: | CN2683308 |
代理机构: | 吉林长春新纪元专利代理有限责任公司 |
代理人: | 单兆全 |
分类号: | B23Q1/40 |
申请人地址: | 中国台湾 |
主权项: | 1、一种线性滑轨的静音球装置,其是由滑座、循环器、弧度抗拉带、 间隔片及滚动元件所组成,其特征在于:该间隔片之间设有一弧度抗拉带, 该弧度抗拉带与间隔片连结,间隔片之间形成一容置空间,滚动元件置入 该容置空间内,间隔片两侧分别斜向延伸设有一直线位移接触面及一循环 位移接触面,滚动元件置于滑座的直孔及循环器的循环孔内,间隔片的直 线位移接触面与滚动元件相互贴合接触,间隔片的循环位移接触面与滚动 元件相互贴合接触,保持滚动元件和间隔片的接触点处于中心处,弧度抗 拉带以点接触方式与抗拉带导引槽配合。 |
所属类别: | 实用新型 |