专利名称: | 多槽负载锁定室及其操作方法 |
摘要: | 本发明实施例包括一负载锁定室、一具有一负载锁定室的处理系统以 及在大气及真空环境间传递基板的方法。在一实施例中,该方法包含在一 室本体中的传递空腔内部保持一已处理的基板达两个通气周期。在另一实 施例中,该方法包含由一传递空腔传递一基板至一位于室本体中的加热空 腔,并在加热空腔中加热基板。在另一实施例中,一负载锁定室包含一室 本体,该室本体具有设置于一传递空腔中的基板支架。基板支架可在一第 一高度及一第二高度间移动。多个凹槽形成于传递空腔的天花板或地板至 少其中一个内,且该等凹槽是配置用以当基板支架位于第二高度时,容纳 至少一部分的基板支架。 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | 应用材料股份有限公司 |
发明人: | S·栗田;S·安瓦尔;李皆淳 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2007-06-01T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200780000429.9 |
公开号: | CN101472814 |
代理机构: | 上海专利商标事务所有限公司 |
代理人: | 陆 嘉 |
分类号: | B65G49/07(2006.01)I |
申请人地址: | 美国加利福尼亚州 |
主权项: | 1. 一种在一大气环境及一真空环境间传递基板的方法,其包含: 由一大气环境传递一第一未处理基板至配置在一负载锁定室本体中的 第一基板传递空腔内的一第一基板支架中,该第一传递空腔具有位于一第 二基板支架上的一第一已处理基板; 排空该第一传递空腔; 由该第一基板支架传递该第一未处理基板至一真空环境中;以及 由该真空环境传递一第二已处理基板至该第一基板支架,该第一基板 支架位于该第一已处理基板上方。 |
所属类别: | 发明专利 |