原文传递
利用体积测定过滤技术来增强光学相干断层成像的装置和方法
| 专利名称： | 利用体积测定过滤技术来增强光学相干断层成像的装置和方法 |
| 摘要： | 提供一种装置和方法。特定辐射包括被导向至少一个样本的至少一个 第一电磁辐射和被导向参考的至少一个第二电磁辐射。具有特定横截面宽 度的第一电磁辐射被施加到样本的至少一个部分，以产生至少一个第三电 磁辐射。可以沿特定轴线在特定横截面宽度的0.5到100的倍数之间的距 离内在所述部分中提供第一电磁辐射。在与第一电磁辐射相关的第三电磁 辐射和与第二电磁辐射相关的至少一个第四电磁辐射之间可以检测干涉。 此外，可以提供第一电磁辐射的非对称横截面区域。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 通用医疗公司 |
| 发明人： | 本杰明·J·瓦科奇;阿德里安·E·德雅尔丹斯;吉列尔莫·J·蒂尔尼;尤金·布雷特·鲍马 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2007-08-24T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200780031332.4 |
| 公开号： | CN101589301 |
| 代理机构： | 北京集佳知识产权代理有限公司 |
| 代理人： | 王 萍;李春晖 |
| 分类号： | G01N21/47(2006.01)I |
| 申请人地址： | 美国马萨诸塞州 |
| 主权项： | 1.一种装置，包括： 至少一个第一设备，其被配置成提供特定辐射，该特定辐射包括被导 向至少一个样本的至少一个第一电磁辐射和被导向参考的至少一个第二 电磁辐射； 至少一个第二设备，其被配置成将具有特定横截面宽度的至少一个第 一电磁辐射施加到所述至少一个样本的至少一个部分，以产生至少一个第 三电磁辐射，其中所述至少一个第二设备还被配置成沿特定轴线在特定横 截面宽度的0.5到100的倍数之间的距离内转换在所述至少一个部分中的 所述至少一个第一电磁辐射；以及 至少一个第三设备，其被配置成检测在与所述至少一个第一电磁辐射 相关的所述至少一个第三电磁辐射和与所述至少一个第二电磁辐射相关 的至少一个第四电磁辐射之间的干涉。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
