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原文传递光学断层成像装置

专利名称：	光学断层成像装置
摘要：	本发明涉及一种成像装置及成像方法。提供一种包括用于粗略成像的低分辨率模式和用于获得详细图像的高分辨率模式的光学断层成像装置。特别地，提供使得能够以较高的速度执行高分辨率模式中的断层成像的光学断层成像装置。根据本发明的成像装置基于组合来自被测量光束照射的对象的返回光束和与测量光束对应的参考光束的组合光束捕获光学干涉断层图像。根据本发明的成像装置还包括用于改变测量光束的光束直径的光束直径改变单元。并且，根据本发明的成像装置包括被配置为以与光束直径对应的分辨率检测组合光束的检测单元。
专利类型：	发明专利
申请人：	佳能株式会社
发明人：	武藤健二;北村健史
专利状态：	有效
申请日期：	2010-07-23T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201010237383.6
公开号：	CN101986185A
代理机构：	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038
代理人：	杨小明
分类号：	G02B27/09(2006.01)I
申请人地址：	日本东京
主权项：	一种光学断层成像装置，该光学断层成像装置将来自光源的光分割成测量光束和参考光束，将测量光束引向对象并将参考光束引向参考反射镜，检测对被所述对象反射或散射的测量光束的返回光束和被所述参考反射镜反射的参考光束进行组合的光束，并且执行所述对象的断层成像，该光学断层成像装置包括：光束直径调整单元，所述光束直径调整单元被配置为调整要被引向所述对象的测量光束的光束直径；检测单元，所述检测单元包含分光单元、图像形成单元和光电转换单元阵列，并被配置为检测所述组合光束；和改变单元，所述改变单元被配置为基于由光束直径调整单元调整的光束直径读取来自光电转换元件阵列的信号、并且改变用于成像的像素的数量与光源的波长带宽的比。
所属类别：	发明专利