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一种基于近场光学行波吸收的痕量物质分析装置
| 专利名称： | 一种基于近场光学行波吸收的痕量物质分析装置 |
| 摘要： | 本发明涉及一种基于近场光学行波吸收的痕量物质分析装置。现有技术 结构复杂，光机要求高，无法得到高精度光谱信息。本发明将由单一光学元 件等腰三角形棱镜构成的环形高精细度腔，两个等腰面为高反射率面；光束 从一个高反射率腰面入射，在棱镜底面发生内全反射形成近场光测试区域， 在等腰三角形棱镜内形成光学行波，从另一个高反射率腰面出射；出射光束 经过由两个高反射镜构成的法珀腔高精度分光单元，移动部件带动法珀腔的 一个高反射镜沿轴向移动，调节控制出射光谱信息；光电探测器接收法珀腔 出射光束，形成高精度光谱信号，实现痕量物质检测。本发明具有系统构成 简单稳定、光谱信息精度高、所需测物量少、适用范围广等特点。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 浙江;33 |
| 申请人： | 杭州电子科技大学 |
| 发明人： | 高秀敏 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2009-07-10T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200910100385.8 |
| 公开号： | CN101592598 |
| 代理机构： | 杭州求是专利事务所有限公司 |
| 代理人： | 杜 军 |
| 分类号： | G01N21/31(2006.01)I |
| 申请人地址： | 310018浙江省杭州市江干区下沙高教园区2号大街 |
| 主权项： | 1、一种基于近场光学行波吸收的痕量物质分析装置，包括光源、光束 准直整形器、近场光学行波腔、第一反射镜、第二反射镜、光电传感器、移 动部件，其特征在于：光源的出射光束光路上依次设置有光束准直整形器和 近场光学行波腔；所述的近场光学行波腔为等腰三角形棱镜，两个腰面为高 反射率反射面，底面为内全反射面，测试区为底面内全反射的光学近场区 域；光束准直整形器的出射光束由第一腰面入射近场光学行波腔，入射方向 与等腰三角形棱镜底面平行，在第一腰面、第二腰面和底面构成的近场光学 行波高精细度腔内形成光学行波，由第二腰面出射；近场光学行波腔的第二 腰面出射光束光路上依次平行设置有的第一反射镜和第二反射镜，第一反射 镜和第二反射镜均与光束传播方向垂直，第一反射镜的反射面和第二反射镜 的反射面相对，第一反射镜和第二反射镜构成法珀腔；光电传感器设置在第 二反射镜的光束出射一侧的光路上；移动部件与第二反射镜连接，带动第二 反射镜沿光束方向移动，调节第一反射镜和第二反射镜的间距。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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