专利名称: | 一种能呈现石英晶体特征结构外形的籽晶加工方法 |
摘要: | 本发明一种能呈现石英晶体特征结构外形的籽晶加工方法,包含如下步骤: (1)划线:研磨Z板原晶的Z面,研磨呈平面,并控制研磨角度为25°20′± 30′,取Y向比X向长,Z面为最大面,在Z面上以垂直Y向为一边划正六边形; (2)切割:沿上述步骤(1)所划正六边形线以垂直Z面方向进行切割,得到一 个六棱柱;(3)研磨各切割面:研磨从步骤2得到的六棱柱的六个侧面,其中 研磨角度的标准值为10°26′,角度公差按照±30′控制;(4)切割:将上述 经过研磨的六棱柱以其中一个柱面为粘接面,平行于Z面进行切割,切割出厚度 为1-3mm的正六边形片。本发明所加工出的籽晶,经过培育即可结晶出具有理想 结构外形的石英晶体。 |
专利类型: | 发明专利 |
国家地区组织代码: | 北京;11 |
申请人: | 北京石晶光电科技股份有限公司 |
发明人: | 赵玉宏;高春浩 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2009-05-11T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN200910136336.X |
公开号: | CN101603202 |
代理机构: | 北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙) |
代理人: | 刘淑芬 |
分类号: | C30B29/18(2006.01)I |
申请人地址: | 100086北京市海淀区知春路知春大厦A座605 |
主权项: | 1、一种能呈现石英晶体特征结构外形的籽晶加工方法,其特征在于:所述 方法包含如下步骤: (1)划线:研磨Z板原晶的Z面,研磨呈平面,并控制研磨角度为25°20′ ±30′,取Y向比X向长,Z面为最大面,在Z面上以垂直Y向为一边划正六边 形; (2)切割:沿上述步骤(1)所划正六边形线以垂直Z面方向进行切割,得 到一个六棱柱; (3)研磨各切割面:研磨从步骤2得到的六棱柱的六个侧面,其中研磨角 度的标准值为10°26′,角度公差按照±30′控制; (4)切割:将上述经过研磨的六棱柱以其中一个柱面为粘接面,平行于Z 面进行切割,切割出厚度为1-3mm的正六边形片。 |
所属类别: | 发明专利 |