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原文传递 一种电化学超微组合电极及其制备方法
专利名称: 一种电化学超微组合电极及其制备方法
摘要: 本发明公开了一种电化学超微组合电极及其制备方法。本发明采用光刻技术将 超微电极图形转移至基片上后,再次甩涂光刻胶,以光刻胶直接作为绝缘包封层, 曝光将电极尖端部分的光刻胶刻蚀掉,形成微电解槽。此方法制作步骤相对简单, 可一次性大量制备,并保证了电极暴露面积精确可控。制作得到的微电解槽在实验 测试中显示出高传质速率、高信噪比、高电流密度等优良的电化学特性。电极位置 固定,有利于得到重现性良好的结果。电解槽的容积小于1pL,可用于精确地限域 并检测痕量电解液。以上结果都表明此类器件具备很好的微量痕量检测的能力。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 北京;11
申请人: 中国科学院化学研究所
发明人: 胡文平;李 涛;董焕丽
专利状态: 有效
申请日期: 2009-07-22T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN200910089731.7
公开号: CN101603939
代理机构: 北京纪凯知识产权代理有限公司
代理人: 关 畅;任凤华
分类号: G01N27/30(2006.01)I
申请人地址: 100080北京市海淀区中关村北一街2号
主权项: 1、一种电化学超微组合电极的制备方法,所述电化学超微组合电极中至少包 括一个超微工作电极和一个超微准参比电极, 所述超微工作电极和所述超微准参比电极由同种金属制成,所述方法包括下述 步骤: 1)采用光刻技术将超微电极图形转移到基片上; 2)在所述基片上蒸镀制备电极的金属层; 3)将步骤2)得到的基片置于有机溶剂中进行剥离处理; 4)在步骤3)得到的基片上再次采用光刻技术,甩涂光刻胶、曝光、显影、定 影,刻蚀掉覆盖所述超微电极的部分光刻胶,形成具有所述电化学超微组合电极的 电解槽;所述刻蚀掉覆盖所述超微电极的部分光刻胶的位置中裸露的电极至少有一 维度尺寸不大于25um,所述电解槽中至少包括一个超微工作电极和一个超微准参比 电极; 所述工作电极和所述准参比电极由不同种金属制成,所述方法还包括在所述步 骤3)后、所述步骤4)前的下述步骤: a)采用光刻技术将超微电极图形转移到基片上; b)在所述基片上蒸镀另一种制备电极的金属层; c)将步骤b)得到的基片置于有机溶剂中进行剥离处理; 所述超微工作电极和所述超微准参比电极的制备顺序可以互换。
所属类别: 发明专利
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