原文传递
低聚氟硅烷的水性组合物及其用于光学元件表面处理的应用
| 专利名称： | 低聚氟硅烷的水性组合物及其用于光学元件表面处理的应用 |
| 摘要： | 本发明涉及包括低聚氟硅烷和表面活性剂的水性组合物。本发明 另外涉及用该水性组合物处理光学元件的方法、以及涉及经过如此处 理的光学元件。本发明另外涉及包括所述经处理的光学元件的制品。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 美国;US |
| 申请人： | 3M创新有限公司 |
| 发明人： | 景乃勇;裘再明 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2004-11-08T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200480038500.9 |
| 公开号： | CN1898348 |
| 代理机构： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 |
| 代理人： | 刘 慧;杨 青 |
| 分类号： | C09D143/04(2006.01)I |
| 申请人地址： | 美国明尼苏达州 |
| 主权项： | 权利要求书 1.水性组合物，其包括表面活性剂和以下通式所示的氟硅烷： X-MfnMhmMar-G (I) 其中X表示引发剂的残基或氢； Mf表示衍生自一种或多种氟化单体的单元； Mh表示衍生自一种或多种非氟化单体的单元； Ma表示具有由下式表示的甲硅烷基的单元： 其中Y4、Y5和Y6各自独立地表示烷基、芳基，并且Y4、Y5和 Y6中的至少一个表示选自卤素、烷氧基、酰氧基、酰基和芳氧基的可 水解基团； G为包括链转移剂的残基的单价有机基团； n表示1到100的值； m表示0到100的值； 并且r表示0到100的值； 并且n+m+r至少为2； 条件是满足以下条件中的至少一个：(a)G包含下式所示的甲硅烷 基： 其中Y1、Y2和Y3各自独立地表示烷基、芳基或可水解基团并且 Y1、Y2和Y3中的至少一个表示选自卤素、烷氧基、酰氧基、酰基和芳 氧基的可水解基团；或(b)r至少为1。 |
| 学科领域： | CCCC02 |
| 所属类别： | 发明专利 |
检索历史
应用推荐
