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用于白光干涉法以及镀膜表征的方法和系统
| 专利名称： | 用于白光干涉法以及镀膜表征的方法和系统 |
| 摘要： | 本发明涉及一种利用具有宽广光谱光源之白光干涉仪测量一样品之表面形态的方法。该方法是基于在样品和一参考面之间的一系列取样幅数的扫描，干涉仪检测到样品上的干涉图形强度数据，其包含的步骤为，对于样品上的每个感兴趣的点(x，y)(亦即待测点)：先对每一待测点(x，y)上因前述相对运动所产生干涉强度变化找出该待测点(x，y)之包迹，由此包迹可初步估计该待测点之粗略高度(zrough)，然后再根据白光干涉的模式，由最佳曲线拟合法，去拟合已纪录之干涉信号，找出干涉信号中之相位差θ，由此相位数据及已找到之粗略高度，进一步得到该点之正确高度，也就是白光干涉应该得到之高分辨率形状zfine，进而提高了仅由粗略高度在白光干涉技术中所未能获得之分辨率。类似的方法可用于描述覆盖于基材上的膜层。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 苏州信达光电科技有限公司 |
| 发明人： | 万德深 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2008-10-30T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN200880114402.7 |
| 公开号： | CN101952683A |
| 代理机构： | 北京华夏博通专利事务所 11264 |
| 代理人： | 孙东风 |
| 分类号： | G01B9/02(2006.01)I |
| 申请人地址： | 215000 江苏省苏州市高新区玉山路65号 |
| 主权项： | 一种用于在具有宽广光谱光源之干涉仪中测量样品之方法，该样品包括基材及设置在基材上的一层薄膜，其特征在于，该方法包括如下步骤：针对样品上每一个有兴趣之位置(x，y)：基于在样品和参考面之间进行的一系列取样幅数的扫描，检测到干涉信号I(z)；将I(z)转换为相对应之频率领域信号，处理此频率信号可得到样品上有兴趣之位置(x，y)的膜厚d(x，y)之初步估值drough；由宽广光源干涉模式以最佳化曲线方式拟合干涉信号I(z)之部分信号，得到相位差信号θfine，再由初步估计之drough去移除θfine中之2π不确定部分，得到优化之膜厚dfine，此优化膜厚dfine分辨率高于膜厚drough。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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