专利名称: |
微细结构体检查方法、微细结构体检查装置和微细结构体检查程序 |
摘要: |
一种微细结构体检查方法,用于检查样品微细结构图案的侧壁角度,其特征在于,具有:在多个SEM条件下拍摄所述样品微细结构图案的SEM照片的工序;测定所述SEM照片中的所述样品微细结构图案的边缘部位的白色带宽度的工序;基于所述白色带宽度随着所述多个SEM条件间的变化产生的变化量,计算出所述样品微细结构图案的侧壁角度的工序。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
凸版印刷株式会社 |
发明人: |
米仓勋;波木井秀充 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2009-03-19T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN200980109275.6 |
公开号: |
CN101978241A |
代理机构: |
隆天国际知识产权代理有限公司 72003 |
代理人: |
郭晓东;马少东 |
分类号: |
G01B15/00(2006.01)I |
申请人地址: |
日本国东京都 |
主权项: |
一种微细结构体检查方法,用于检查样品微细结构图案的侧壁角度,其特征在于,具有:在多个SEM条件下拍摄所述样品微细结构图案的SEM照片的工序;测定所述SEM照片中的所述样品微细结构图案的边缘部位的白色带宽度的工序;基于所述白色带宽度随着所述多个SEM条件间的变化产生的变化量,计算出所述样品微细结构图案的侧壁角度的工序。 |
所属类别: |
发明专利 |