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原文传递光刻设备和污染物检测方法

专利名称：	光刻设备和污染物检测方法
摘要：	一种光刻设备(1)，所述光刻设备包括：容器(5)，所述容器封闭具有用于被探测用于污染物控制的测试表面(4)的部件(40)；和光学探针，所述光学探针被配置成发射和接收光学探测束(2)。所述容器(5)包括第一光学端口(8)和第二光学端口(9)，所述第一光学端口被配置成朝向所述测试表面(4)传输所述光学探测束(2)，所述第二光学端口被配置成接收反射的光学探测束(3)。所述光学探针包括光源(10)、偏振调节器(11)和光谱分析器(12)，所述光源被配置以提供所述光学探测束(2)，所述偏振调节器(11)被配置以提供预定的偏振状态给所述探测束(2)。所述偏振调节器(11)被预先设定以为最小透射波长提供最小透射，所述光谱分析器(12)被布置以响应于由于污染物的出现导致的偏振变化来探测所述最小透射波长的波长偏移。
专利类型：	发明专利
申请人：	ASML荷兰有限公司
发明人：	A·J·A·布鲁恩斯莫;J·H·J·莫尔斯;L·H·J·斯蒂文斯;A·维夫凯德;P·G·W·布辛克;E·A·M·布鲁沃尔
专利状态：	有效
申请日期：	2009-03-27T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN200980110569.0
公开号：	CN101981504A
代理机构：	中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：	王波波
分类号：	G03F7/20(2006.01)I
申请人地址：	荷兰维德霍温
主权项：	一种光刻设备，所述光刻设备包括：容器，所述容器封闭具有用于被探测用于污染物控制的测试表面的部件；和光学探针，所述光学探针被配置成发射和接收光学探测束，所述容器包括第一光学端口和第二光学端口，所述第一光学端口被配置成朝向所述测试表面传输所述光学探测束，所述第二光学端口被配置成接收反射的光学探测束，所述光学探针包括光源、偏振调节器和光谱分析器，所述光源被配置以提供所述光学探测束，所述偏振调节器被配置以提供预定的偏振状态给所述探测束，所述偏振调节器被预先设定，以为最小透射波长提供最小透射，所述光谱分析器被布置以响应于由于污染物的出现导致的偏振变化来探测所述最小透射波长的波长偏移。
所属类别：	发明专利