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原文传递光刻标线片的保护和转移

专利名称：	光刻标线片的保护和转移
摘要：	本发明涉及一种基片保护和转移系统，以及在光刻工具内转移一个基片由大气压至真空的方法。此系统包括一个或多个基片转移盒(111)。每个盒具有至少一个通气孔和至少一个过滤器。此系统还包括一个端部操作装置(113)，与一个机器人臂(115)匹配，以便能使基片(109)定位在一个盒(111)内，从而形成一个盒-基片装置。此系统还包括一个具有一个底板(711)和一个盖子(713)的箱子(701)。箱子(701)保持一个或多个盒-基片装置。用这种方式提供了一个箱子-盒-基片装置。为了转移基片，基片(109)首先装载进入
专利类型：	发明专利
申请人：	ASML美国公司
发明人：	圣地亚哥·E·德尔普埃尔托
专利状态：	有效
申请日期：	2002-08-12T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN02802985.2
公开号：	CN1473129
代理机构：	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人：	郑修哲
分类号：	B65G49/07
申请人地址：	美国康涅狄格
所属类别：	发明专利