专利名称: | 光刻标线片的保护和转移 |
摘要: | 本发明涉及一种基片保护和转移系统,以及在光刻工具内转移一个基片由大气压至真空的方法。此系统包括一个或多个基片转移盒(111)。每个盒具有至少一个通气孔和至少一个过滤器。此系统还包括一个端部操作装置(113),与一个机器人臂(115)匹配,以便能使基片(109)定位在一个盒(111)内,从而形成一个盒-基片装置。此系统还包括一个具有一个底板(711)和一个盖子(713)的箱子(701)。箱子(701)保持一个或多个盒-基片装置。用这种方式提供了一个箱子-盒-基片装置。为了转移基片,基片(109)首先装载进入 |
专利类型: | 发明专利 |
申请人: | ASML美国公司 |
发明人: | 圣地亚哥·E·德尔普埃尔托 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2002-08-12T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN02802985.2 |
公开号: | CN1473129 |
代理机构: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人: | 郑修哲 |
分类号: | B65G49/07 |
申请人地址: | 美国康涅狄格 |
所属类别: | 发明专利 |