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原文传递 俄歇电子能谱仪检测样品的表面处理方法
专利名称: 俄歇电子能谱仪检测样品的表面处理方法
摘要: 本发明揭露了一种俄歇电子能谱仪检测样品的表面处理方法,该方法包括如下步骤:提供俄歇电子能谱仪检测样品;利用稀有气体离子溅射所述俄歇电子能谱仪检测样品表面。该方法简单实用,成本低,可快速有效的减小荷电效应,并且对需要进行组分分析的检测样品表面不会产生损坏,确保获取准确的检测样品表面组分分析结果,提高了产品良率。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 上海;31
申请人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司
发明人: 齐瑞娟
专利状态: 有效
申请日期: 2009-08-04T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN200910055898.1
公开号: CN101988911A
代理机构: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人: 屈蘅;李时云
分类号: G01N23/227(2006.01)I
申请人地址: 201203 上海市张江路18号
主权项: 一种俄歇电子能谱仪检测样品的表面处理方法,包括:提供一俄歇电子能谱仪检测样品;利用稀有气体离子溅射所述俄歇电子能谱仪检测样品表面。
所属类别: 发明专利
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