专利名称: |
俄歇电子能谱仪检测样品的表面处理方法 |
摘要: |
本发明揭露了一种俄歇电子能谱仪检测样品的表面处理方法,该方法包括如下步骤:提供俄歇电子能谱仪检测样品;利用稀有气体离子溅射所述俄歇电子能谱仪检测样品表面。该方法简单实用,成本低,可快速有效的减小荷电效应,并且对需要进行组分分析的检测样品表面不会产生损坏,确保获取准确的检测样品表面组分分析结果,提高了产品良率。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
上海;31 |
申请人: |
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
发明人: |
齐瑞娟 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2009-08-04T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN200910055898.1 |
公开号: |
CN101988911A |
代理机构: |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人: |
屈蘅;李时云 |
分类号: |
G01N23/227(2006.01)I |
申请人地址: |
201203 上海市张江路18号 |
主权项: |
一种俄歇电子能谱仪检测样品的表面处理方法,包括:提供一俄歇电子能谱仪检测样品;利用稀有气体离子溅射所述俄歇电子能谱仪检测样品表面。 |
所属类别: |
发明专利 |