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荧光量或吸光量的测定方法及测定装置
| 专利名称： | 荧光量或吸光量的测定方法及测定装置 |
| 摘要： | 本发明得到一种荧光量或吸光量的测定方法及测定装置，其将从试样产生的荧光量，作为“可溯源至国家标准的每单位面积的光量”而定量地测定。在荧光量测定方法中，向试样照射激励光，经由受光光学系统，利用受光元件测定从该试样产生的荧光，并具有下述步骤：向试样照射激励光的步骤，该激励光具有可溯源至国家标准且在试样表面的每单位面积上为预先指定的光量值；经由受光光学系统，利用受光元件测定从试样产生的荧光的步骤；以及基于每单位面积上的指定激励光量、受光光学系统的光学系数以及受光元件的受光系数，对由受光元件测定的荧光量进行运算，从而作为可溯源至国家标准的每单位面积的光量值而进行计算的步骤。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 横河电机株式会社 |
| 发明人： | 田名网健雄;青木秀年;杉山由美子;下田聪一郎;兰宗树 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2010-08-06T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201010250354.3 |
| 公开号： | CN101995291A |
| 代理机构： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
| 代理人： | 何立波;张天舒 |
| 分类号： | G01J1/00(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本东京 |
| 主权项： | 一种荧光量测定方法，其向试样照射激励光，经由受光光学系统，利用受光元件测定从该试样产生的荧光，其特征在于，具有下述步骤：向所述试样照射激励光的步骤，该激励光具有可溯源至国家标准且在试样表面的每单位面积上为预先指定的光量值；经由所述受光光学系统，利用所述受光元件测定从所述试样产生的荧光的步骤；以及基于所述每单位面积上的指定激励光量、所述受光光学系统的光学系数以及所述受光元件的受光系数，对由所述受光元件测定的荧光量进行运算，从而作为可溯源至国家标准的每单位面积上的光量值而进行计算的步骤。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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