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物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
| 专利名称： | 物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法 |
| 摘要： | 于基板(P)下方，配置有对基板(P)下面喷出空气的复数个空气悬浮单元(50)，基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。又，基板(P)被定点载台(40)所具有的夹具本体(81)从下方以非接触方式保持被曝光部位，该被曝光部位的面位置被精确调整。是以，能以高精度对基板(P)进行曝光。由于夹具本体(81)根据基板的位置移动于扫描方向，因此即使在基板进入曝光区域(IA)时亦能确实地保持基板。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 株式会社尼康 |
| 发明人： | 青木保夫 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2010-08-19T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201080036925.1 |
| 公开号： | CN102483580A |
| 分类号： | G03F7/20(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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