专利名称: |
一种校位装置 |
摘要: |
本发明涉及一种校位装置,其特征在于:包括支架和相对设置的两组挡件;所述两组挡件均可水平移动地安装在支架上并分别连接有动力源,两组挡件由相应的动力源分别驱动相向或相背运动;两组挡件相对的一侧分别设有至少两个横向分布的接触支点,同一组组挡件的多个接触支点构成工作面,两组挡件的工作面均与两组挡件相向或相背运动的方向垂直。本发明的两组挡件相向或相背运动地移动,且各挡件设有多个接触支点以构成工作面,当相应的挡件推动工件时,两者的摩擦力分散在工件侧面的多个位置、且挡件在推动工件平移时会不断调整对工件作用的方向,两侧挡件循环动作,使工件能够准确地到达校正位置,实现顺畅地输送工件至釉线皮带上,使校正位置的工件输送过程顺畅。 |
专利类型: |
发明专利 |
申请人: |
广东宏威陶瓷实业有限公司;广东宏陶陶瓷有限公司 |
发明人: |
梁桐灿;余明国 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2011-09-30T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201110301959.5 |
公开号: |
CN102502223A |
分类号: |
B65G47/26(2006.01)I |
申请人地址: |
511533 广东省清远市源潭陶瓷工业城二期开发区 |
主权项: |
一种校位装置,其特征在于:包括支架(1)和相对设置的两组挡件(2、3);所述两组挡件(2、3)均可水平移动地安装在支架(1)上并分别连接有动力源(4、5),两组挡件(2、3)由相应的动力源(4、5)分别驱动相向或相背运动;两组挡件(2、3)相对的一侧分别设有至少两个横向分布的接触支点,同一组组挡件的多个接触支点构成工作面,两组挡件(2、3)的工作面均与两组挡件相向或相背运动的方向垂直。 |
所属类别: |
发明专利 |