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原文传递 基于碳化硅的肖特基势垒二极管氧传感器及制造方法
专利名称: 基于碳化硅的肖特基势垒二极管氧传感器及制造方法
摘要: 本发明公开了一种基于碳化硅的肖特基势垒二极管氧传感器,包括SiC衬底层、TiO2氧气敏感层、金属铂电极I、n+高掺杂层和钛-铂金属复合层电极;SiC衬底层一侧溅射TiO2氧气敏感层,该氧气敏感层上溅射金属铂电极I,形成肖特基接触;SiC衬底层的另一侧依次设置有高掺杂n+层、钛-铂金属复合叠层,作为肖特基势垒二极管结构中的欧姆接触;本发明利用了碳化硅材料能满足传感器高温工作要求;由于金属铂电极的催化作用,TiO2氧气敏感层具有良好的氧敏特性,利用金属、半导体接触的氧传感器结构,检测氧气浓度的变化,该氧传感器具有很快的响应速度、极高的灵敏度、具有制作成本较低、制备工艺成熟、传感器重量较轻等优点。
专利类型: 发明专利
国家地区组织代码: 重庆;85
申请人: 重庆邮电大学
发明人: 王巍;代作海;罗元;王晓磊;白晨旭;唐政维;李银国
专利状态: 有效
申请日期: 2011-10-18T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201110316787.9
公开号: CN102507704A
代理机构: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275
代理人: 赵荣之
分类号: G01N27/419(2006.01)I
申请人地址: 400065 重庆市南岸区黄桷垭崇文路2号
主权项: 基于碳化硅的肖特基势垒二极管氧传感器,其特征在于:包括SiC衬底层、TiO2氧气敏感层、金属铂电极I、n+高掺杂层和钛?铂金属复合层电极,所述SiC衬底层一侧溅射氧气敏感层,所述氧气敏感层上再溅射金属铂电极I,所述氧气敏感层和金属铂电极I形成肖特基势垒结构。
所属类别: 发明专利
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