专利名称: |
基于碳化硅的肖特基势垒二极管氧传感器及制造方法 |
摘要: |
本发明公开了一种基于碳化硅的肖特基势垒二极管氧传感器,包括SiC衬底层、TiO2氧气敏感层、金属铂电极I、n+高掺杂层和钛-铂金属复合层电极;SiC衬底层一侧溅射TiO2氧气敏感层,该氧气敏感层上溅射金属铂电极I,形成肖特基接触;SiC衬底层的另一侧依次设置有高掺杂n+层、钛-铂金属复合叠层,作为肖特基势垒二极管结构中的欧姆接触;本发明利用了碳化硅材料能满足传感器高温工作要求;由于金属铂电极的催化作用,TiO2氧气敏感层具有良好的氧敏特性,利用金属、半导体接触的氧传感器结构,检测氧气浓度的变化,该氧传感器具有很快的响应速度、极高的灵敏度、具有制作成本较低、制备工艺成熟、传感器重量较轻等优点。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
重庆;85 |
申请人: |
重庆邮电大学 |
发明人: |
王巍;代作海;罗元;王晓磊;白晨旭;唐政维;李银国 |
专利状态: |
有效 |
申请日期: |
2011-10-18T00:00:00+0800 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201110316787.9 |
公开号: |
CN102507704A |
代理机构: |
北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 |
代理人: |
赵荣之 |
分类号: |
G01N27/419(2006.01)I |
申请人地址: |
400065 重庆市南岸区黄桷垭崇文路2号 |
主权项: |
基于碳化硅的肖特基势垒二极管氧传感器,其特征在于:包括SiC衬底层、TiO2氧气敏感层、金属铂电极I、n+高掺杂层和钛?铂金属复合层电极,所述SiC衬底层一侧溅射氧气敏感层,所述氧气敏感层上再溅射金属铂电极I,所述氧气敏感层和金属铂电极I形成肖特基势垒结构。 |
所属类别: |
发明专利 |