专利名称: | 一种基于介质阻挡放电的固体样品剥蚀方法及装置 |
摘要: | 本发明公开了一种基于介质阻挡放电的固体样品剥蚀方法及装置。该方法包括如下步骤:工作气体在交流电场的作用下进行介质阻挡放电产生等离子体射流;所述等离子体射流聚于待测固体样品上即可对所述待测固体样品中的元素进行剥蚀。所述装置包括样品室和毛细管,所述样品室包括样品室腔体和与该样品室腔体相配合的样品室盖体;所述毛细管固设于所述样品室盖体上且一端延伸至所述样品室腔体内;所述毛细管设于所述样品室腔体外的部分上贴附有两个电极,所述两个电极之间设有间距,所述两个电极均与交流电源相连接;所述样品室腔体的侧壁上的相对位置处分别设有辅助气体进口和出气口。本发明为等离子体发射光谱、等离子体质谱、原子吸收或者原子荧光光谱仪的小型化、便携式提供了有力的研究基础。 |
专利类型: | 发明专利 |
国家地区组织代码: | 北京;11 |
申请人: | 清华大学 |
发明人: | 邢志;杨萌;张四纯;张新荣 |
专利状态: | 有效 |
申请日期: | 2011-12-13T00:00:00+0800 |
发布日期: | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: | CN201110415342.6 |
公开号: | CN102519917A |
代理机构: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 |
代理人: | 关畅 |
分类号: | G01N21/62(2006.01)I |
申请人地址: | 100084 北京市海淀区清华园1号 |
主权项: | 一种基于介质阻挡放电的固体样品剥蚀方法,包括如下步骤:工作气体在交流电场的作用下进行介质阻挡放电产生等离子体射流;所述等离子体射流聚于待测固体样品上即可对所述待测固体样品中的元素进行剥蚀。 |
所属类别: | 发明专利 |