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物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法
| 专利名称： | 物体处理装置、曝光装置及曝光方法、以及元件制造方法 |
| 摘要： | 于基板(P)下方，配置有对基板(P)下面喷出空气的复数个空气悬浮单元(50)，基板(P)被以非接触方式支承成大致水平。又，基板(P)被定点载台(40)所具有的夹具本体(81)从下方以非接触方式保持被曝光部位，该被曝光部位的面位置被精确调整。是以，能以高精度对基板(P)进行曝光。由于夹具本体(81)根据基板的位置移动于扫描方向，因此即使在基板进入曝光区域(IA)时亦能确实地保持基板。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 株式会社尼康 |
| 发明人： | 青木保夫 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2010-08-19T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201080036925.1 |
| 公开号： | CN102483580A |
| 代理机构： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 |
| 代理人： | 任默闻 |
| 分类号： | G03F7/20(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 主权项： | 一种物体处理装置，包括：一物体驱动装置，其将沿与水平面平行的一既定二维平面配置的一平板状物体驱动于该二维平面内的至少一轴方向；一执行装置，其对被该物体驱动装置以一定速度驱动的该物体，在该物体的移动路径上的一既定区域内对该物体表面的被处理部位执行既定处理；一调整装置，其包含一具有面积较该物体狭小的保持面的保持构件，使用该保持构件从下方以非接触状态保持该物体的一部分，并且调整该物体在与该二维平面交叉的方向的位置；以及一驱动装置，其根据该物体相对该既定区域的位置，将该保持构件一边调整位置、一边驱动于该一轴方向。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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