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处理设备、输送控制装置以及输送控制方法
| 专利名称： | 处理设备、输送控制装置以及输送控制方法 |
| 摘要： | 本发明提供一种处理设备、输送控制装置以及输送控制方法。处理设备在各个处理装置之间具有多个输送路径。处理设备对各时刻的各被输送物的待机时间、输送目的地以及输送源的处理装置的负荷状态、各被输送物的输送区域内全体的负荷状态、以及各输送单元的负荷状态的各自进行加权，对应输送区域内的状况使加权变动来计算输送处理的优先度，决定将哪个被输送物输送到哪个处理装置来控制输送单元。上述处理设备不会大型化，不会增加在制品量和研制周期，具有足够的输送能力。根据上述的处理设备，在被被输送物的输送目的地的负荷高时，可以缩短整个处理装置的生产节拍时间。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 株式会社IHI |
| 发明人： | 志田伦教 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2009-06-22T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201110358229.9 |
| 公开号： | CN102502201A |
| 代理机构： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
| 代理人： | 许静;郭凤麟 |
| 分类号： | B65G37/00(2006.01)I |
| 申请人地址： | 日本东京都 |
| 主权项： | 一种输送控制装置，其用于在下述的处理设备中控制输送单元，所述处理设备在多个处理装置之间存在多条被输送物的输送路径，并具有多个沿着所述输送路径输送被输送物的输送单元，使多个被输送物与一个所述输送单元对应，该输送控制装置的特征在于，具备控制所述各输送单元的控制单元，所述控制单元，对各时刻的所述各被输送物的待机时间、所述各被输送物的输送目的地处理装置的负荷状态、以及所述各被输送物的输送区域内全体的负荷状态分别进行预定的加权，使用所述加权计算所述各被输送物的输送处理的优先度，根据该计算结果决定应该将所述各被输送物 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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