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一种AMOLED显示器件及其子像素结构的制备方法
| 专利名称： | 一种AMOLED显示器件及其子像素结构的制备方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种AMOLED显示器件及其子像素结构的制备方法，通过在子像素的制备中变更共振腔调整层的金属掩膜版，以形成具有不同厚度共振腔调整层的子像素，进而在一个像素单元中增加淡蓝色子像素结构和橘色子像素结构，以形成包含纯蓝色子像素、纯红色子像素、纯绿色子像素、淡蓝色子像素和橘色子像素的像素单元，并在相邻的两个像素单元中共用相邻的两个子像素，进而形成AMOLED显示器件，以有效降低显示屏功耗，并同时还能维持AMOLED显示器件原有的高色彩饱和度。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 申请人： | 上海和辉光电有限公司 |
| 发明人： | 林信志;邹忠哲;张斌 |
| 专利状态： | 有效 |
| 申请日期： | 2014-06-12T00:00:00+0800 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201410261108.6 |
| 公开号： | CN104037202A |
| 代理机构： | 上海申新律师事务所 31272 |
| 代理人： | 吴俊 |
| 分类号： | H01L27/32(2006.01)I |
| 申请人地址： | 201506 上海市金山区工业区大道100号1幢二楼208室 |
| 主权项： | 一种AMOLED显示器件，其特征在于，所述显示器件包括由若干个像素单元构成的像素阵列，且每个所述像素单元均由至少四个子像素构成，并通过调配所述子像素，使所述像素单元发出所需的光；其中，每个所述子像素中均设置有共振腔调整层，且任意一个所述子像素的共振腔调整层的厚度与其余子像素的共振腔调整层的厚度均不相同。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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