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原文传递 AMOLED结构及其制作方法
专利名称: AMOLED结构及其制作方法
摘要: 本发明涉及一种AMOLED结构及其制作方法。该AMOLED结构包括基板、TFT电路层、主板电路层、OLED器件层、第一封装层、以及第二封装层,所述基板包括相对的顶面和底面,所述TFT电路层设于所述基板的顶面,所述主板电路层设于所述基板的底面,所述OLED器件层设于所述TFT电路层之上,所述第一封装层包覆所述TFT电路层和所述OLED器件层,所述第二封装层包覆所述主板电路层。本发明可有效利用基板空间,同时具有减薄AMOLED厚度的效果。
专利类型: 发明专利
申请人: 上海和辉光电有限公司
发明人: 邓学易
专利状态: 有效
申请日期: 2014-08-28T00:00:00+0800
发布日期: 2019-01-01T00:00:00+0800
申请号: CN201410429175.4
公开号: CN104201191A
代理机构: 上海唯源专利代理有限公司 31229
代理人: 曾耀先
分类号: H01L27/32(2006.01)I
申请人地址: 201508 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室
主权项: 一种AMOLED结构,其特征在于,包括硅片、TFT电路层、主板电路层、OLED器件层、第一封装层、以及第二封装层,所述硅片包括相对的顶面和底面,所述TFT电路层设于所述硅片的顶面,所述主板电路层设于所述硅片的底面,所述OLED器件层设于所述TFT电路层之上,所述第一封装层包覆所述TFT电路层和所述OLED器件层,所述第二封装层包覆所述主板电路层。
所属类别: 发明专利
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