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原文传递 ESD防护结构及方法

专利名称：	ESD防护结构及方法
摘要：	本发明涉及显示器件的结构及其制备领域，尤其涉及一种ESD防护结构及方法，通过在器件制备工艺时，在器件区域制备具有导电性质的结构层的同时，于空旷区制备静电放电结构，将残存于器件区的载流子进行放电，并循环往复，以在每个具有导电性质的结构层的制备工艺时，均会对器件区域中残存的载流子进行一次放电，进而使得器件区域中的载流子不会大量聚集，避免形成过大的瞬间电流，进而有效的降低器件结构中静电击伤现象的发生的几率，提高了产品的性能和良率。
专利类型：	发明专利
申请人：	上海和辉光电有限公司
发明人：	蔡学明
专利状态：	有效
申请日期：	2014-02-26T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201410067807.7
公开号：	CN103811488A
代理机构：	上海申新律师事务所 31272
代理人：	吴俊
分类号：	H01L27/02(2006.01)I
申请人地址：	201506 上海市金山区工业区大道100号1幢二楼208室
主权项：	一种ESD防护结构，所述防护结构包括：半导体衬底，所述半导体衬底具有器件区和空旷区；静电释放结构，所述静电释放结构设置于所述半导体衬底的空旷区；导电层，所述导电层设置于所述半导体衬底的器件区；其中，所述导电层与所述静电释放结构连接，以将残存于所述空旷区的载流子通过所述静电释放结构进行放电。
所属类别：	发明专利