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原文传递热退火设备

专利名称：	热退火设备
摘要：	本实用新型涉及一种热退火设备，用于对非晶硅薄膜进行热退火处理，包括依序分隔形成的预热室、退火室、以及冷却室，所述退火室内包括温度依序降低的多个工作腔，所述预热室的温度低于多个所述工作腔中与所述预热室相邻的工作腔的温度，所述冷却室的温度低于多个所述工作腔中与所述冷却室相邻的工作腔的温度。采用在退火室前设置预热室，在热退火过程中，使得玻璃基板的温度逐渐上升到最高温度，且在退火室内设置温度依序降低的工作腔，实现玻璃基板的温度逐渐下降，避免玻璃基板进入制程就急速升温到最高制程温度，可降低气泡、膜裂等不良现象的产生。采用温度逐渐下降，可以有效降低玻璃基板和膜层的收缩、变形引起的问题。
专利类型：	实用新型专利
申请人：	上海和辉光电有限公司
发明人：	柯其勇;商金栋;左文霞
专利状态：	有效
申请日期：	2014-12-02T00:00:00+0800
发布日期：	2019-01-01T00:00:00+0800
申请号：	CN201420744922.9
公开号：	CN204243004U
代理机构：	上海唯源专利代理有限公司 31229
代理人：	曾耀先
分类号：	H01L21/324(2006.01)I
申请人地址：	201508 上海市金山区金山工业区大道100号1幢二楼208室
主权项：	一种用于对非晶硅薄膜进行热退火处理的热退火设备，其特征在于，包括依序分隔形成的预热室、退火室、以及冷却室，所述退火室内包括温度依序降低的多个工作腔；所述预热室的温度低于多个所述工作腔中与所述预热室相邻的工作腔的温度，所述冷却室的温度低于多个所述工作腔中与所述冷却室相邻的工作腔的温度。
所属类别：	实用新型