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VPD机台中亲水性硅片表面液滴的收集装置
| 专利名称： | VPD机台中亲水性硅片表面液滴的收集装置 |
| 摘要： | 本发明公开了一种VPD机台中亲水性硅片表面液滴的收集装置，所述装置包括注射泵，且在一机械手的带动下吸住液滴均匀扫过硅片表面，该装置还包括外通气单元和内收集管，所述内收集管的一端与注射泵相连接，另一端用于吸取亲水性硅片表面的液滴，所述外通气单元的下端在所述内收集管的下端的下方，且外通气单元将液滴聚拢气体倾斜地导入。本发明在内收集管的外侧设置外通气单元，从而引入氮气，并且由于外通气单元的下端(即出气口)比内收集管的下端(即吸液口)低，这样可以利用倾斜导入的氮气对亲水性硅片表面的回收液进行环绕包裹，从而使硅片表面呈摊开状分布的回收液变成液滴状，便于引导对硅片表面进行扫描分析。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 上海;31 |
| 申请人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 发明人： | 宋健;周洁;姜舜 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810768387.3 |
| 公开号： | CN108871900A |
| 代理机构： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 |
| 代理人： | 栾美洁 |
| 分类号： | G01N1/28(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N1;G01N1/28 |
| 申请人地址： | 201203 上海市浦东新区自由贸易试验区高斯路568号 |
| 主权项： | 1.一种VPD机台中亲水性硅片表面液滴的收集装置，所述装置包括注射泵，且在一机械手的带动下吸住液滴均匀扫过硅片表面，其特征在于，还包括外通气单元和内收集管，所述内收集管的一端与注射泵相连接，另一端用于吸取亲水性硅片表面的液滴，所述外通气单元的下端在所述内收集管的下端的下方，且外通气单元将液滴聚拢气体倾斜地导入。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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