专利名称: |
预制拼装桥墩构件水平拼接缝灌浆排气构造及灌浆方法 |
摘要: |
本发明公开了一种预制拼装桥墩构件水平拼接缝灌浆排气构造,所述桥墩构件包括上部构件和下部构件,上部构件和下部构件的对应拼接面之间形成拼接缝,其特征在于上部构件的拼接面上预留一条或多条排气槽,所述排气槽最高处与上部构件外部连通,在灌浆时随着浆液顶面的缓慢上升,将拼接缝中的空气逐渐沿排气槽排出,达到灌浆缝密实的目的。本发明与现有技术相比具有下列优点和效果:拼缝顶面设置排气槽后,增加了拼接缝灌浆过程中空气的排出通道,通过排气槽的合理分布,极大减少残留气泡,提高灌浆缝密实度,减少对桥梁结构的不利影响。 |
专利类型: |
发明专利 |
国家地区组织代码: |
上海;31 |
申请人: |
上海市政工程设计研究总院(集团)有限公司 |
发明人: |
齐新;卢永成;张智然 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201711449406.8 |
公开号: |
CN108457186A |
代理机构: |
上海世圆知识产权代理有限公司 31320 |
代理人: |
陈颖洁 |
分类号: |
E01D21/00(2006.01)I;E01D19/02(2006.01)I;E;E01;E01D;E01D21;E01D19;E01D21/00;E01D19/02 |
申请人地址: |
200092 上海市杨浦区中山北二路901号 |
主权项: |
1.一种预制拼装桥墩构件水平拼接缝灌浆排气构造,所述桥墩构件包括上部构件和下部构件,上部构件和下部构件的对应拼接面之间形成拼接缝,其特征在于上部构件的拼接面上预留一条或多条排气槽,所述排气槽最高处与上部构件外部连通,在灌浆时随着浆液顶面的缓慢上升,将拼接缝中的空气逐渐沿排气槽排出,达到灌浆缝密实的目的。 |
所属类别: |
发明专利 |