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基于双探测器光栅干涉仪的单次曝光X射线暗场成像方法
| 专利名称： | 基于双探测器光栅干涉仪的单次曝光X射线暗场成像方法 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于双探测器光栅干涉仪的单次曝光X射线暗场成像方法，设置由X射线源、相位光栅、第一探测器和第二探测器构成的双探测器光栅干涉仪；将第一探测器的工作点固定在光强曲线的峰位，分别获取背景投影图像和被成像物投影图像；将第二探测器的工作点固定在光强曲线的谷位，分别获取背景投影图像和被成像物投影图像；利用获取的图像提取被成像物的暗场信号。本发明摒弃繁琐的光栅步进扫描，简化X射线暗场成像过程；对被成像物进行一次曝光，降低辐射损伤风险；解决了低光子计数时暗场信号的准确提取问题，从而为发展快速、准确、低辐射剂量的X射线暗场成像技术提供新途径。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 安徽;34 |
| 申请人： | 合肥工业大学 |
| 发明人： | 王志立;任坤;石晓敏;夏健霖 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810481753.7 |
| 公开号： | CN108896584A |
| 代理机构： | 安徽省合肥新安专利代理有限责任公司 34101 |
| 代理人： | 何梅生 |
| 分类号： | G01N23/04(2018.01)I;G01N23/083(2018.01)I;G;G01;G01N;G01N23;G01N23/04;G01N23/083 |
| 申请人地址： | 230009 安徽省合肥市包河区屯溪路193号 |
| 主权项： | 1.一种基于双探测器光栅干涉仪的单次曝光X射线暗场成像方法，其特征是：设置由X射线源(1)、相位光栅(2)、第一探测器(3)和第二探测器(4)构成的双探测器光栅干涉仪；将第一探测器的工作点固定在光强曲线的峰位，分别获取背景投影图像和被成像物投影图像；将第二探测器的工作点固定在光强曲线的谷位，分别获取背景投影图像和被成像物投影图像；利用获取的图像提取被成像物的暗场信号。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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