专利名称: |
检测基台及检测系统 |
摘要: |
本实用新型公开了一种检测基台及检测系统,属于检测装置领域。所述检测基台包括:承载基台以及设置在所述承载基台上的n个吸附孔,其中,n≥2;在所述承载基台上,所述n个吸附孔中存在至少一个吸附孔的周围设置有凹槽,所述凹槽与所述至少一个吸附孔连通。本实用新型解决了现有技术中检测基台在检测待测基板时待测基板与承载基台贴合度较低的问题,提高了待测基板与承载基台之间的贴合度。 |
专利类型: |
实用新型 |
国家地区组织代码: |
北京;11 |
申请人: |
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
发明人: |
杨林 |
专利状态: |
有效 |
发布日期: |
2019-01-01T00:00:00+0800 |
申请号: |
CN201720459311.3 |
公开号: |
CN206891943U |
代理机构: |
北京三高永信知识产权代理有限责任公司 11138 |
代理人: |
滕一斌 |
分类号: |
G01N21/01(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/01 |
申请人地址: |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |
主权项: |
一种检测基台,其特征在于,所述检测基台包括:承载基台以及设置在所述承载基台上的n个吸附孔,其中,n≥2;在所述承载基台上,所述n个吸附孔中存在至少一个吸附孔的周围设置有凹槽,所述凹槽与所述至少一个吸附孔连通。 |
所属类别: |
实用新型 |