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共聚焦显微系统中针孔轴向位置的调节方法
| 专利名称： | 共聚焦显微系统中针孔轴向位置的调节方法 |
| 摘要： | 一种共聚焦显微系统中针孔位置的调节方法，利用相变材料的非线性吸收效应，通过检测透过率信号的极值点或者反射率信号的凹点来判断系统精确的焦点位置，然后根据此焦点位置快速精确的确定共聚焦显微系统中反射光探测模块中的针孔位置。本发明实现快速精确的确定共聚焦显微系统中针孔位置，可以达到纳米级别精度，且只需要一片镀膜材料，成本低廉。 |
| 专利类型： | 发明专利 |
| 国家地区组织代码： | 上海;31 |
| 申请人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 发明人： | 丁晨良;魏劲松 |
| 专利状态： | 有效 |
| 发布日期： | 2019-01-01T00:00:00+0800 |
| 申请号： | CN201810107661.2 |
| 公开号： | CN108387562A |
| 代理机构： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 |
| 代理人： | 张宁展 |
| 分类号： | G01N21/64(2006.01)I;G;G01;G01N;G01N21;G01N21/64 |
| 申请人地址： | 201800 上海市嘉定区清河路390号 |
| 主权项： | 1.一种共聚焦显微系统中针孔位置的透射探测式调节方法，其特征在于该方法包括以下步骤：a)在盖玻片上用磁控溅射的方法镀上一层相变薄膜材料；b)将该盖玻片置于样品台上，利用一束功率密度小于5×109W/m2的平行光经过物镜聚焦照射该盖玻片；c)沿着入射光方向移动样品台，使盖玻片经过入射光焦点；d)通过探测器测量盖玻片透射光的光强信号，根据光强信号的极值判断焦点位置：当相变薄膜材料为饱和吸收材料时，选取光强信号曲线上的最大值作为焦点位置；当相变薄膜材料为反饱和吸收材料时，选取光强信号曲线上的最小值作为焦点位置；e)将盖玻片移动到焦点位置，此时调节光路反射探测模块中的针孔轴向位置，使针孔后方探测器接收到的光强最大，此时的针孔位置就是共聚焦系统要求的共轭位置。 |
| 所属类别： | 发明专利 |
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